『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=165093)

EID=165093EID:165093, Map:0, LastModified:2016年12月8日(木) 14:43:59, Operator:[三好 小文], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[日下 一也], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨): 国内共著 (徳島大学内研究者と国内(学外)研究者との共同研究 (国外研究者を含まない)) [継承]
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 [継承]
著者 (必須): 1.英 崇夫
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
2.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Kaneko Kenta (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) Sakata Osami (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
5. (英) Nishida Masayuki (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
題名 (必須): (英) Stress-assisted atomic migration in thin copper films  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Key Engineering Materials ([Trans Tech Publications Ltd])
(pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795)

ISSN (任意): 1662-9795
ISSN: 1662-9795 (eISSN: 1662-9795)
Title: Key Engineering Materials
Publisher: "Trans Tech Publications, Ltd."
 (CrossRef (No Scopus information.)
[継承]
[継承]
(必須): 353-358 [継承]
(必須): [継承]
(必須): 671 674 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2007年 7月 初日 (平成 19年 7月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.4028/www.scientific.net/KEM.353-358.671    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意): 2-s2.0-36048980701 [継承]
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kenta Kaneko, Osami Sakata and Masayuki Nishida : Stress-assisted atomic migration in thin copper films, Key Engineering Materials, Vol.353-358, 671-674, 2007.
欧文冊子 ● Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kenta Kaneko, Osami Sakata and Masayuki Nishida : Stress-assisted atomic migration in thin copper films, Key Engineering Materials, Vol.353-358, 671-674, 2007.

関連情報

Number of session users = 1, LA = 0.65, Max(EID) = 363220, Max(EOID) = 972365.