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登録内容 (EID=164992)

EID=164992EID:164992, Map:0, LastModified:2013年8月27日(火) 13:31:00, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[村井 啓一郎], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1. (英) Kouji Shimomura (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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2.富永 喜久雄
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Daisuke Takada (日) (読)
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4. (英) Hiroshi Suketa (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5. (英) Keiji Takita (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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6.村井 啓一郎 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) In2O3-ZnO transparent conductive oxide film deposition on polycarbonate substrate  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): (英) ISSP 2007 Committee (日) (読) [継承]
誌名 (必須): (英) Proc. of the nineth International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 445 448 [継承]
都市 (必須): 金沢 (Kanazawa/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2007年 6月 6日 (平成 19年 6月 6日) [継承]
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和文冊子 ● Shimomura Kouji, Kikuo Tominaga, Takada Daisuke, Suketa Hiroshi, Takita Keiji, Kei-ichiro Murai and Toshihiro Moriga : In2O3-ZnO transparent conductive oxide film deposition on polycarbonate substrate, Proc. of the nineth International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, 445-448, Kanazawa, June 2007.
欧文冊子 ● Shimomura Kouji, Kikuo Tominaga, Takada Daisuke, Suketa Hiroshi, Takita Keiji, Kei-ichiro Murai and Toshihiro Moriga : In2O3-ZnO transparent conductive oxide film deposition on polycarbonate substrate, Proc. of the nineth International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, 445-448, Kanazawa, June 2007.

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