『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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登録内容 (EID=164979)

EID=164979EID:164979, Map:0, LastModified:2013年8月23日(金) 15:59:52, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
組織 (必須): 1.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
研究者 (必須): 1.富永 喜久雄 [継承]
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2.日亜化学工業株式会社
研究者 (必須): 1.向井 孝志 ([日亜化学工業株式会社]) [継承]
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種別 (必須): 企業との共同研究 [継承]
テーマ (必須): (英) Investigations of film properties of sputtered AlN and GaN  (日) スパッタ法により作製されたAlNやGaN窒化物薄膜に関する研究   [継承]
期間 (必須): 西暦 2007年 6月 1日 (平成 19年 6月 1日) 〜西暦 2008年 3月 31日 (平成 20年 3月 31日) [継承]
区分 (任意): 分担 [継承]
金額 (推奨): 1.600.0千円 [継承]
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● 徳島大学 工学部 電気電子工学科 物性デバイス講座 (富永 喜久雄), 日亜化学工業株式会社 (向井 孝志), スパッタ法により作製されたAlNやGaN窒化物薄膜に関する研究, 2007年6月〜2008年3月.
欧文冊子 ● Material Science and Device, Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Tokushima University (Kikuo Tominaga), NICHIA CORPORATION (Takashi Mukai), Investigations of film properties of sputtered AlN and GaN, June 2007-March 2008.

関連情報

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