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登録内容 (EID=16145)

EID=16145EID:16145, Map:0, LastModified:2007年8月1日(水) 12:29:55, Operator:[日下 一也], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[日下 一也], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨):
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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2.英 崇夫
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 本論文は,ガラス基板上にプレーナマグネトロンスパッタリングにより蒸着したAlN薄膜の結晶配向性および残留応力をX線回折法により実験的に調査したものである.通常のプレーナマグネトロンスパッタリング法(CPM)および2枚のターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法(FTPM)により成膜したAlN膜について,膜表面形状と結晶特性を調べた.窒素ガス圧は一定とし,基板温度と蒸着時間をパラメータとした.得られた結果は次のとおりである.(1)FTPMの膜はCPMに比べて結晶粒が大きい.(2)CPMで作製した厚い膜は高いc軸配向性を有する.(3)FTPMで製作した膜および低基板温度で作製した膜は高い引張残留応力を有する.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): (英) IOM Communications Ltd. (日) (読) [継承]
誌名 (必須): (英) Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 1 [継承]
(必須):
(必須): 391 398 [継承]
都市 (必須): (英) Oxford, United Kingdom (日) (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2000年 7月 10日 (平成 12年 7月 10日) [継承]
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DOI (任意):
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WOS (任意):
Scopus (任意):
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被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
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標準的な表示

和文冊子 ● Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film, Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses, Vol.1, (号), 391-398, Oxford, United Kingdom, July 2000.
欧文冊子 ● Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Relationship between Grain Size and Residual Stress in AlN Sputtered Film, Proceedings of the Sixth International Conference on Residual Stresses, Vol.1, (号), 391-398, Oxford, United Kingdom, July 2000.

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