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EID=157900EID:157900, Map:0, LastModified:2016年5月10日(火) 21:02:28, Operator:[大家 隆弘], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[三輪 昌史], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □学術論文 (審査論文) [継承]
○言語 (必須): □英語 [継承]
○招待 (推奨):
○審査 (推奨): □Peer Review [継承]
○カテゴリ (推奨): □研究 [継承]
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.北海道大学 [継承]
2.和歌山大学 [継承]
○著者 (必須): 1.ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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2. (英) Vygantas Mizeikis (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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3. (英) K Seet (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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4.三輪 昌史 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.知能機械学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.知能機械学講座])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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5.三澤 弘明 ([北海道大学])
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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○題名 (必須): □(英) Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨):
○誌名 (必須): □Nanotechnology ([American Institute of Physics]/Institute of Physics (Great Britain))
(pISSN: 0957-4484, eISSN: 1361-6528)

○ISSN (任意): □1361-6528
ISSN: 0957-4484 (pISSN: 0957-4484, eISSN: 1361-6528)
Title: Nanotechnology
Title(ISO): Nanotechnology
Publisher: IOP Publishing Ltd.
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○巻 (必須): □16 [継承]
○号 (必須): □6 [継承]
○頁 (必須): □846 849 [継承]
○都市 (任意):
○年月日 (必須): □西暦 2005年 4月 11日 (平成 17年 4月 11日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意): □10.1088/0957-4484/16/6/039    (→Scopusで検索) [継承]
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○WOS (任意):
○Scopus (任意):
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○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Saulius Juodkazis, Mizeikis Vygantas, Seet K, Masafumi Miwa and Hiroaki Misawa : Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist, Nanotechnology, Vol.16, No.6, 846-849, 2005.
欧文冊子 ● Saulius Juodkazis, Mizeikis Vygantas, Seet K, Masafumi Miwa and Hiroaki Misawa : Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist, Nanotechnology, Vol.16, No.6, 846-849, 2005.

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