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登録内容 (EID=157900)

EID=157900EID:157900, Map:0, LastModified:2016年5月10日(火) 21:02:28, Operator:[大家 隆弘], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[三輪 昌史], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.北海道大学 [継承]
2.和歌山大学 [継承]
著者 (必須): 1.ヨードカシス サウリウス ([北海道大学])
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Vygantas Mizeikis (日) (読)
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) K Seet (日) (読)
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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4.三輪 昌史 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.知能機械学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.知能機械学講座])
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貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5.三澤 弘明 ([北海道大学])
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意):
キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): Nanotechnology ([American Institute of Physics]/Institute of Physics (Great Britain))
(pISSN: 0957-4484, eISSN: 1361-6528)

ISSN (任意): 1361-6528
ISSN: 0957-4484 (pISSN: 0957-4484, eISSN: 1361-6528)
Title: Nanotechnology
Title(ISO): Nanotechnology
Publisher: Institute of Physics Publishing
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(必須): 16 [継承]
(必須): 6 [継承]
(必須): 846 849 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2005年 4月 11日 (平成 17年 4月 11日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.1088/0957-4484/16/6/039    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意):
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
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標準的な表示

和文冊子 ● Saulius Juodkazis, Mizeikis Vygantas, Seet K, Masafumi Miwa and Hiroaki Misawa : Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist, Nanotechnology, Vol.16, No.6, 846-849, 2005.
欧文冊子 ● Saulius Juodkazis, Mizeikis Vygantas, Seet K, Masafumi Miwa and Hiroaki Misawa : Two-photon lithography of nanorods in SU-8 photoresist, Nanotechnology, Vol.16, No.6, 846-849, 2005.

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