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登録内容 (EID=155635)

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種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨): 研究 [継承]
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.機械工学科.機械工学科教員 [継承]
著者 (必須): 1.松英 達也 ([新居浜工業高等専門学校])
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学籍番号 (推奨):
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2.英 崇夫
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Ikeuchi Yasukazu (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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4.日下 一也 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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5. (英) Sakata Osami (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by synchrotron radiation due to heat treatment  (日)    [継承]
副題 (任意):
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キーワード (推奨):
発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) The 8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須):
(必須):
(必須): TF P1-13 [継承]
都市 (必須): (英) Kanazawa (日) (読) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2005年 6月 初日 (平成 17年 6月 初日) [継承]
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和文冊子 ● Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasukazu Ikeuchi, Kazuya Kusaka and Osami Sakata : Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by synchrotron radiation due to heat treatment, The 8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, (巻), (号), TF-P1-13, Kanazawa, June 2005.
欧文冊子 ● Tatsuya Matsue, Takao Hanabusa, Yasukazu Ikeuchi, Kazuya Kusaka and Osami Sakata : Alteration of internal stresses in SiO2/Cu/TiN thin films by synchrotron radiation due to heat treatment, The 8th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes, (巻), (号), TF-P1-13, Kanazawa, June 2005.

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