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登録内容 (EID=15413)

EID=15413EID:15413, Map:0, LastModified:2006年5月10日(水) 14:07:38, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.化学応用工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □国際会議 [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.物質合成化学講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1. (英) Shibata Hirofumi (日) 柴田 浩史 (読) しばた ひろふみ
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2.妹尾 真紀子
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3.佐藤 恒之
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英) Photopolymerization of methyl methacrylate with the CpTiCl3/(-)-sparteine system  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意): □(英)   (日) メタクリル酸メチルの光重合を，メタノール/水混合溶媒中，ビスシクロペンタジエニルチタニウムクロライドを用いて，キレート剤としてスパルテイン存在下で行った．スパルテイン存在下では，重合が抑制されたが，通常のラジカル重合で合成したポリメタクリル酸メチルとは溶解特性が異なり，ベンゼン不溶部が多く含まれることがわかった．このベンゼン不溶部は，ベンゼン可溶部に比べて熱的安定性が高い．   [継承]
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨):
○誌名 (必須): □ (英) The 2nd International Conference on Advanced Materials Development and Performance (日) (読)
○ISSN (任意):
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○巻 (必須): □2 [継承]
○号 (必須):
○頁 (必須): □854 857 [継承]
○都市 (必須): □徳島 (Tokushima/[日本国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 1999年 11月 23日 (平成 11年 11月 23日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
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和文冊子 ● Hirofumi Shibata, Makiko Seno and Tsuneyuki Sato : Photopolymerization of methyl methacrylate with the CpTiCl3/(-)-sparteine system, The 2nd International Conference on Advanced Materials Development and Performance, 2, (号), 854-857, Tokushima, Nov. 1999.
欧文冊子 ● Hirofumi Shibata, Makiko Seno and Tsuneyuki Sato : Photopolymerization of methyl methacrylate with the CpTiCl3/(-)-sparteine system, The 2nd International Conference on Advanced Materials Development and Performance, 2, (号), 854-857, Tokushima, Nov. 1999.

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