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登録内容 (EID=137423)

EID=137423EID:137423, Map:0, LastModified:2017年4月15日(土) 20:36:00, Operator:[大家 隆弘], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[[学科長]/[徳島大学.総合科学部.総合理数学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
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著者 (必須): 1. (英) Takashita Masahiro (日) (読)
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2. (英) Aoki Haruyoshi (日) (読)
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3. (英) Haworth C. J. (日) (読)
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4. (英) Terashima T. (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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5. (英) Uji Sinya (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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6. (英) Terakura C. (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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7. (英) Matsumoto T. (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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8. (英) Uesawa A. (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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9. (英) Suzuki T (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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10. (英) Settai Rikio (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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11. (英) Onuki Yoshichika (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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12. (英) Sato N (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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13. (英) Kunii S (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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14. (英) Nishigaki T (日) (読)
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学籍番号 (推奨):
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15.菅原 仁
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学籍番号 (推奨):
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16. (英) Aoki Yuji (日) (読)
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17. (英) Sato H. (日) (読)
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題名 (必須): (英) de Haas-van Alphen Effect of Strongly Correlated f-Electron systems under pressure  (日)    [継承]
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発行所 (推奨):
誌名 (必須): 高圧力の科学と技術 ([日本高圧力学会])
(pISSN: 0917-639X, eISSN: 1348-1940)

ISSN (任意): 1348-1940
ISSN: 0917-639X (pISSN: 0917-639X, eISSN: 1348-1940)
Title: 高圧力の科学と技術
Supplier: 日本高圧力学会
Publisher: Japan Society of High Pressure Science and Technology
 (J-STAGE  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
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(必須): 7 [継承]
(必須):
(必須): 456 458 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 1998年 1月 初日 (平成 10年 1月 初日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.4131/jshpreview.7.456    (→Scopusで検索) [継承]
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和文冊子 ● Masahiro Takashita, Haruyoshi Aoki, J. C. Haworth, T. Terashima, Sinya Uji, C. Terakura, T. Matsumoto, A. Uesawa, T Suzuki, Rikio Settai, Yoshichika Onuki, N Sato, S Kunii, T Nishigaki, Hitoshi Sugawara, Yuji Aoki and H. Sato : de Haas-van Alphen Effect of Strongly Correlated f-Electron systems under pressure, The Review of High Pressure Science and Technology, Vol.7, (号), 456-458, 1998.
欧文冊子 ● Masahiro Takashita, Haruyoshi Aoki, J. C. Haworth, T. Terashima, Sinya Uji, C. Terakura, T. Matsumoto, A. Uesawa, T Suzuki, Rikio Settai, Yoshichika Onuki, N Sato, S Kunii, T Nishigaki, Hitoshi Sugawara, Yuji Aoki and H. Sato : de Haas-van Alphen Effect of Strongly Correlated f-Electron systems under pressure, The Review of High Pressure Science and Technology, Vol.7, (号), 456-458, 1998.

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