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登録内容 (EID=13442)

EID=13442EID:13442, Map:0, LastModified:2006年5月10日(水) 14:07:38, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.化学応用工学科]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □総説·解説 [継承]
○言語 (必須):
○招待 (推奨):
○審査 (推奨):
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.物質合成化学講座 (〜2023年3月31日) [継承]
○著者 (必須): 1.佐藤 恒之
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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2. (英) Sato Masanobu (日) 佐藤 雅信 (読) さとう まさのぶ
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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○題名 (必須): □(英)   (日) パーオキシエステル基含むビニルモノマーのラジカル重合への応用   [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □ (英) (日) 高分子刊行会 (読) こうぶんしかんこうかい [継承]
○誌名 (必須): □ (英) (日) 高分子加工 (読) こうぶんしかこう
○ISSN (任意):
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○巻 (必須): □49 [継承]
○号 (必須): □2 [継承]
○頁 (必須): □68 73 [継承]
○都市 (任意):
○年月日 (必須): □西暦 2000年 2月 1日 (平成 12年 2月 1日) [継承]
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標準的な表示

和文冊子 ● 佐藤 恒之, 佐藤 雅信 : パーオキシエステル基含むビニルモノマーのラジカル重合への応用, 高分子加工, Vol.49, No.2, 68-73, 2000年2月.
欧文冊子 ● Tsuneyuki Sato and Masanobu Sato : パーオキシエステル基含むビニルモノマーのラジカル重合への応用, 高分子加工, Vol.49, No.2, 68-73, Feb. 2000.

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