『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
登録内容 (EID=120565)
| EID=120565 | EID:120565,
Map:0,
LastModified:2014年11月5日(水) 15:11:32,
Operator:[三木 ちひろ],
Avail:TRUE,
Censor:承認済,
Owner:[[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]],
Read:継承,
Write:継承,
Delete:継承.
|
| ○組織 (推奨): | 1. | 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 (〜2023年3月31日)
| [継承] |
| ○種別 (必須): | □ | 特許
| [継承] |
| ○出願国 (必須): |
| ○発明者 (必須): | 1. | 村上 理一
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| 2. | 林 澈文
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| 3. | (英) (日) 林 祐輔 (読) はやし ゆうすけ
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
| [継承] |
| ○出願人 (推奨): |
| ○名称 (必須): | □ | (英) (日) 2Hダイヤモンド薄膜とそのカルボキシル化薄膜ならびに該薄膜を用いる網の基保有物質チップ
| [継承] |
| ○要約 (任意): |
| ○キーワード (推奨): |
| ○出願 (必須): | □ | 2004-172795
| ○出願年月日 (必須): | □ | 西暦 2004年 6月 10日 (平成 16年 6月 10日)
| [継承] |
| [継承] |
| ○開示 (必須): |
| ○番号 (必須): |
| ○年月日 (必須): |
| ○備考 (任意): |
|
標準的な表示
| 和文冊子 ● |
村上 理一, 林 澈文, 林 祐輔 : 2Hダイヤモンド薄膜とそのカルボキシル化薄膜ならびに該薄膜を用いる網の基保有物質チップ, 特願2004-172795 (2004年6月), (開示), (番号) ((年月日)). |
| 欧文冊子 ● |
Ri-ichi Murakami, Cheol-Mun Yim and 林 祐輔 : 2Hダイヤモンド薄膜とそのカルボキシル化薄膜ならびに該薄膜を用いる網の基保有物質チップ, 2004-172795 (June 2004), (開示), (番号) ((年月日)). |
関連情報
Number of session users = 0, LA = 0.48, Max(EID) = 433235, Max(EOID) = 1153359.