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登録内容 (EID=120406)

EID=120406EID:120406, Map:0, LastModified:2022年10月31日(月) 13:41:14, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[副研究部長]/[徳島大学.大学院社会産業理工学研究部]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □学術論文 (審査論文) [継承]
○言語 (必須): □英語 [継承]
○招待 (推奨):
○審査 (推奨): □Peer Review [継承]
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨):
○著者 (必須): 1. (英) Deguchi Kimiyoshi (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2. (英) Miyoshi Kazunori (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Ban Hiroshi (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) Kyuragi Hakaru (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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5.小中 信典
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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6. (英) Matsuda Tadahito (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
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○題名 (必須): □(英) Application of x-ray lithography with single-layer resist process to subquartermicron large scale integrated circuit fabrication  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨):
○誌名 (必須): □Journal of Vacuum Science & Technology B (American Vacuum Society)
(resolved by 1071-1023)
ISSN: 1071-1023 (pISSN: 1071-1023, eISSN: 0734-211X)
Title: Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures : processing, measurement, and phenomena : an official journal of the American Vacuum Society
Title(ISO): J Vac Sci Technol B Microelectron Nanometer Struct Process Meas Phenom
Publisher: American Institute of Physics
 (NLM Catalog)   (Scopus)   (Scopus)   (CrossRef)   (CrossRef)  (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 0734-211X)
ISSN: 1071-1023 (pISSN: 1071-1023, eISSN: 0734-211X)
Title: Journal of vacuum science & technology. B, Microelectronics and nanometer structures : processing, measurement, and phenomena : an official journal of the American Vacuum Society
Title(ISO): J Vac Sci Technol B Microelectron Nanometer Struct Process Meas Phenom
Publisher: American Institute of Physics
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○ISSN (任意):
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○巻 (必須): □B10 [継承]
○号 (必須): □6 [継承]
○頁 (必須): □3145 3149 [継承]
○都市 (任意):
○年月日 (必須): □西暦 1992年 6月 初日 (平成 4年 6月 初日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意): □10.1116/1.585945    (→Scopusで検索) [継承]
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○WOS (任意):
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○指導教員 (推奨):
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標準的な表示

和文冊子 ● Kimiyoshi Deguchi, Kazunori Miyoshi, Hiroshi Ban, Hakaru Kyuragi, Shinsuke Konaka and Tadahito Matsuda : Application of x-ray lithography with single-layer resist process to subquartermicron large scale integrated circuit fabrication, Journal of Vacuum Science & Technology B, Vol.B10, No.6, 3145-3149, 1992.
欧文冊子 ● Kimiyoshi Deguchi, Kazunori Miyoshi, Hiroshi Ban, Hakaru Kyuragi, Shinsuke Konaka and Tadahito Matsuda : Application of x-ray lithography with single-layer resist process to subquartermicron large scale integrated circuit fabrication, Journal of Vacuum Science & Technology B, Vol.B10, No.6, 3145-3149, 1992.

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