『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
ID: Pass:

登録内容 (EID=120237)

EID=120237EID:120237, Map:0, LastModified:2022年10月27日(木) 15:59:35, Operator:[三木 ちひろ], Avail:TRUE, Censor:承認済, Owner:[[副研究部長]/[徳島大学.大学院社会産業理工学研究部]], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
○種別 (必須): □国際会議 [継承]
○言語 (必須): □英語 [継承]
○招待 (推奨):
○審査 (推奨): □Peer Review [継承]
○カテゴリ (推奨):
○共著種別 (推奨):
○学究種別 (推奨):
○組織 (推奨):
○著者 (必須): 1. (英) Kyuragi H. (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
2.小中 信典
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
3. (英) Kobayashi T. (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) Deguchi K. (日) (読)
○役割 (任意):
○貢献度 (任意):
○学籍番号 (推奨):
[継承]
○題名 (必須): □(英) Deep Subhalf-micron BiCMOS technology Using Synchrotron X-ray Lithography and Its Application to 58ps 2V CMOS Gate Array  (日)    [継承]
○副題 (任意):
○要約 (任意):
○キーワード (推奨):
○発行所 (推奨): □IEEE [継承]
○誌名 (必須): □ (英) 1992 Symposium on VLSI Technology (日) (読)
○ISSN (任意):
[継承]
○巻 (必須): □ [継承]
○号 (必須): □ [継承]
○頁 (必須): □26 27 [継承]
○都市 (必須): □ホノルル (Honolulu/[アメリカ合衆国]) [継承]
○年月日 (必須): □西暦 1992年 6月 15日 (平成 4年 6月 15日) [継承]
○URL (任意):
○DOI (任意):
○PMID (任意):
○CRID (任意):
○WOS (任意):
○Scopus (任意):
○評価値 (任意):
○被引用数 (任意):
○指導教員 (推奨):
○備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● H. Kyuragi, Shinsuke Konaka, T. Kobayashi and K. Deguchi : Deep Subhalf-micron BiCMOS technology Using Synchrotron X-ray Lithography and Its Application to 58ps 2V CMOS Gate Array, 1992 Symposium on VLSI Technology, 26-27, Honolulu, June 1992.
欧文冊子 ● H. Kyuragi, Shinsuke Konaka, T. Kobayashi and K. Deguchi : Deep Subhalf-micron BiCMOS technology Using Synchrotron X-ray Lithography and Its Application to 58ps 2V CMOS Gate Array, 1992 Symposium on VLSI Technology, 26-27, Honolulu, June 1992.

関連情報

Number of session users = 0, LA = 2.62, Max(EID) = 433097, Max(EOID) = 1153130.