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登録内容 (EID=11906)

EID=11906EID:11906, Map:0, LastModified:2017年6月12日(月) 14:31:49, Operator:[三好 小文], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 学術論文 (審査論文) [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
審査 (推奨): Peer Review [継承]
カテゴリ (推奨):
共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Okamoto Takashi (日) 岡本 隆司 (読) おかもと たかし
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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3. (英) Hiruta Kazunori (日) 蛭田 和典 (読) ひるた かずのり
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
[継承]
4. (英) Fujiwara Azumi (日) 藤原 東洋 (読) ふじわら あずみ
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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5.中林 一朗
役割 (任意):
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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6.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
貢献度 (任意):
学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Structures and Physical Properties of Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering of ZnO and In2O3 or ITO Targets  (日)    [継承]
副題 (任意):
要約 (任意): (英)   (日) 対向ターゲット式DCスパッタリング装置を用いて,酸化亜鉛-酸化インジウム系透明導電膜の作製を行った.基板温度を150℃として製膜を行った場合,幅広い組成領域でアモルファス相が生成した.インジウムリッチなアモルファス薄膜において最小抵抗率2.3x10-4ohmcmを示すこと,その後アモルファス相において,インジウム含有量が減少するにつれキャリア移動度は一定であるがキャリア濃度が減少するため結果として抵抗率が増加することを明らかにした.   [継承]
キーワード (推奨):
発行所 (推奨): Academic Press (->組織[Elsevier Science]) [継承]
誌名 (必須): Journal of Solid State Chemistry ([Elsevier])
(resolved by 0022-4596)
ISSN: 0022-4596 (pISSN: 0022-4596, eISSN: 1095-726X)
Title: Journal of solid state chemistry
Title(ISO): J Solid State Chem
Publisher: Elsevier Inc.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1095-726X)
ISSN: 0022-4596 (pISSN: 0022-4596, eISSN: 1095-726X)
Title: Journal of solid state chemistry
Title(ISO): J Solid State Chem
Publisher: Elsevier Inc.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])

ISSN (任意):
[継承]
(必須): 155 [継承]
(必須):
(必須): 312 319 [継承]
都市 (任意):
年月日 (必須): 西暦 2000年 12月 1日 (平成 12年 12月 1日) [継承]
URL (任意):
DOI (任意): 10.1006/jssc.2000.8919    (→Scopusで検索) [継承]
PMID (任意):
NAID (任意):
WOS (任意):
Scopus (任意): 2-s2.0-0034490983 [継承]
評価値 (任意):
被引用数 (任意):
指導教員 (推奨):
備考 (任意):

標準的な表示

和文冊子 ● Toshihiro Moriga, Takashi Okamoto, Kazunori Hiruta, Azumi Fujiwara, Ichiro Nakabayashi and Kikuo Tominaga : Structures and Physical Properties of Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering of ZnO and In2O3 or ITO Targets, Journal of Solid State Chemistry, Vol.155, (号), 312-319, 2000.
欧文冊子 ● Toshihiro Moriga, Takashi Okamoto, Kazunori Hiruta, Azumi Fujiwara, Ichiro Nakabayashi and Kikuo Tominaga : Structures and Physical Properties of Films Deposited by Simultaneous DC Sputtering of ZnO and In2O3 or ITO Targets, Journal of Solid State Chemistry, Vol.155, (号), 312-319, 2000.

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