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登録内容 (EID=118125)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1.林 澈文
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2. (英) (日) 林 祐輔 (読) はやし ゆうすけ
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3. (英) (日) 高木 優次 (読) たかぎ ゆうじ
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4.米倉 大介 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
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5.村上 理一
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題名 (必須): (英)   (日) マイクロ波プラズマCVD法により成膜したダイヤモンド薄膜の化学修飾に関する研究   [継承]
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発行所 (推奨): 日本材料学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 日本材料学会第52期学術講演会講演論文集 (読) にほんざいりょうがっかいだいごじゅうにかいきがくじゅつこうえんかいこうえんろんぶんしゅう
ISSN (任意):
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都市 (必須): 東京 (Tokyo/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2003年 5月 17日 (平成 15年 5月 17日) [継承]
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和文冊子 ● 林 澈文, 林 祐輔, 高木 優次, 米倉 大介, 村上 理一 : マイクロ波プラズマCVD法により成膜したダイヤモンド薄膜の化学修飾に関する研究, 日本材料学会第52期学術講演会講演論文集, (巻), (号), (頁), 2003年5月.
欧文冊子 ● Cheol-Mun Yim, 林 祐輔, 高木 優次, Daisuke Yonekura and Ri-ichi Murakami : マイクロ波プラズマCVD法により成膜したダイヤモンド薄膜の化学修飾に関する研究, 日本材料学会第52期学術講演会講演論文集, (巻), (号), (頁), May 2003.

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