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登録内容 (EID=118124)

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種別 (必須): 国内講演発表 [継承]
言語 (必須): 日本語 [継承]
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著者 (必須): 1.村上 理一
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2.米倉 大介 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) (日) 入江 桂史 (読) いりえ けいし
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4.林 澈文
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学籍番号 (推奨):
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5. (英) (日) 林 祐輔 (読) はやし ゆうすけ
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英)   (日) マイクロ波CVD法により製作したダイヤモンド薄膜の化学修飾   [継承]
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発行所 (推奨): 日本材料学会 [継承]
誌名 (必須): (英) (日) 日本材料学会第53期学術講演会講演論文集 (読) にほんざいりょうがっかいだい きがくじゅつこうえんかいこうえんろんぶんしゅう
ISSN (任意):
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(必須):
(必須):
(必須): 224 225 [継承]
都市 (必須): 岡山 (Okayama/[日本国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2004年 5月 15日 (平成 16年 5月 15日) [継承]
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和文冊子 ● 村上 理一, 米倉 大介, 入江 桂史, 林 澈文, 林 祐輔 : マイクロ波CVD法により製作したダイヤモンド薄膜の化学修飾, 日本材料学会第53期学術講演会講演論文集, (巻), (号), 224-225, 2004年5月.
欧文冊子 ● Ri-ichi Murakami, Daisuke Yonekura, 入江 桂史, Cheol-Mun Yim and 林 祐輔 : マイクロ波CVD法により製作したダイヤモンド薄膜の化学修飾, 日本材料学会第53期学術講演会講演論文集, (巻), (号), 224-225, May 2004.

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