| ○種別 (必須): | □ | 学術論文 (審査論文)
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| ○言語 (必須): | □ | 日本語
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| ○招待 (推奨): |
| ○審査 (推奨): | □ | Peer Review
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| ○カテゴリ (推奨): | □ | 研究
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| ○共著種別 (推奨): |
| ○学究種別 (推奨): |
| ○組織 (推奨): | 1. | 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座 (〜2023年3月31日)
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| ○著者 (必須): | 1. | 林 澈文
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 2. | 辛 道勲
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 3. | (英) Hayashi Yusuke (日) 林 祐輔 (読) はやし ゆうすけ
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 4. | (英) Irie Keishi (日) 入江 桂史 (読) いりえ けいし
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 5. | 村上 理一
| ○役割 (任意): | □ | (英) (日) 計画，実験，考察，論文執筆
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| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| 6. | 金 允海 ([徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座])
| ○役割 (任意): |
| ○貢献度 (任意): |
| ○学籍番号 (推奨): |
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| ○題名 (必須): | □ | (英) Deposition of Nanocrystalline Diamond Films on Pure Ti by CH4/H2 Microwave Plasma CVD (日) メタン/水素マイクロ波プラズマCVD法による純チタン基板上のナノダイヤモンド成膜
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| ○副題 (任意): |
| ○要約 (任意): | □ | (英) (日) マイクロ波プラズマCVD法を用いてメタン/水素混合ガスを流すことによって純チタン基板上にナノダイヤモンドを成膜し，そのナノダイヤモンドの形成過程を明らかにするとともにナノダイヤモンドの性質を解明した．
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| ○キーワード (推奨): | 1. | (英) Mircocrystalline diamond (日) (読)
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| 2. | (英) Nanocrystalline diamond (日) (読)
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| 3. | (英) Pure titanium substrate (日) (読)
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| 4. | (英) Surface roughness (日) (読)
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| 5. | (英) MPCVD (日) (読)
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| ○発行所 (推奨): | □ | 日本材料学会
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| ○誌名 (必須): | □ | 材料 ([日本材料学会])
(pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)
| ○ISSN (任意): | □ | 0514-5163
ISSN: 0514-5163
(pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488) Title: 材料Supplier: 社団法人日本材料学会Publisher: Society of Materials Science Japan (Webcat Plus)
(J-STAGE)
(Scopus)
(CrossRef)
(Scopus information is found. [need login]) | [継承] |
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| ○巻 (必須): | □ | 54
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| ○号 (必須): | □ | 1
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| ○頁 (必須): | □ | 73 78
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| ○都市 (任意): |
| ○年月日 (必須): | □ | 西暦 2005年 1月 15日 (平成 17年 1月 15日)
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| ○URL (任意): | □ | http://ci.nii.ac.jp/naid/110006266386/
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| ○DOI (任意): | □ | 10.2472/jsms.54.73 (→Scopusで検索)
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| ○PMID (任意): |
| ○CRID (任意): | □ | 1390001205417886336
| [継承] |
| ○NAID : | □ | 110006266386
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| ○WOS (任意): |
| ○Scopus (任意): | □ | 2-s2.0-14944386995
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| ○評価値 (任意): |
| ○被引用数 (任意): |
| ○指導教員 (推奨): |
| ○備考 (任意): |