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EID=115469EID:115469, Map:0, LastModified:2007年1月19日(金) 18:52:27, Operator:[森賀 俊広], Avail:TRUE, Censor:0, Owner:[森賀 俊広], Read:継承, Write:継承, Delete:継承.
種別 (必須): 国際会議 [継承]
言語 (必須): 英語 [継承]
招待 (推奨):
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共著種別 (推奨):
学究種別 (推奨):
組織 (推奨): 1.徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座 [継承]
2.徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座 [継承]
著者 (必須): 1.林 由佳子
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学籍番号 (推奨):
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2. (英) Kondo Kumiko (日) 近藤 久美子 (読) こんどう くみこ
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学籍番号 (推奨):
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3. (英) Nishimura Yusuke (日) 西村 勇介 (読) にしむら ゆうすけ
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学籍番号 (推奨):
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4. (英) Suketa Hiroshi (日) 助田 祐志 (読) すけた ひろし
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学籍番号 (推奨):
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5.村井 啓一郎 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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6.森賀 俊広 ([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
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学籍番号 (推奨):
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7.中林 一朗
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学籍番号 (推奨):
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8.富永 喜久雄
役割 (任意): 共著 [継承]
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学籍番号 (推奨):
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題名 (必須): (英) Characterizations of Transparent Conducting Amorphous ZnO-SnO2 Films Deposited by Opposed Target Sputtering System  (日)    [継承]
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発行所 (推奨):
誌名 (必須): (英) The 13th International Conference on Processing and Fabrication of Advanced Materials (日) (読)
ISSN (任意):
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(必須): 1 [継承]
(必須):
(必須): 209 218 [継承]
都市 (必須): シンガポール (Singapore/[シンガポール共和国]) [継承]
年月日 (必須): 西暦 2004年 12月 8日 (平成 16年 12月 8日) [継承]
URL (任意): http://serve.me.nus.edu.sg/pfam13 [継承]
DOI (任意):
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和文冊子 ● Yukako Hayashi, Kumiko Kondo, Yusuke Nishimura, Hiroshi Suketa, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga, Ichiro Nakabayashi and Kikuo Tominaga : Characterizations of Transparent Conducting Amorphous ZnO-SnO2 Films Deposited by Opposed Target Sputtering System, The 13th International Conference on Processing and Fabrication of Advanced Materials, Vol.1, (号), 209-218, Singapore, Dec. 2004.
欧文冊子 ● Yukako Hayashi, Kumiko Kondo, Yusuke Nishimura, Hiroshi Suketa, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga, Ichiro Nakabayashi and Kikuo Tominaga : Characterizations of Transparent Conducting Amorphous ZnO-SnO2 Films Deposited by Opposed Target Sputtering System, The 13th International Conference on Processing and Fabrication of Advanced Materials, Vol.1, (号), 209-218, Singapore, Dec. 2004.

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