『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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REF=閲覧 大韓民国

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全ての有効な情報 (21件)
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[組織](特許・実用新案の属する組織)による分類 :
閲覧 閲覧 徳島大学 …(5)
閲覧 閲覧 徳島大学 …(5)
閲覧 (未定義) …(16)
[種別](特許・実用新案の区別)による分類 :
[出願国](出願国または国内,国外,国際の別)による分類 :
[出願国](出願国または国内,国外,国際の別)による分類 :
[年月日](確定年月日)による分類
○ 年による分類 :
○ 年度による分類 :

抽出結果のリスト

排列順: 項目表示:
閲覧 Tadamitsu Iritani and Uebo Tetsuji : DISTANCE-MEASURING DEVICE AND EQUIPMENT, AND DISTANCE-MEASURING METHOD, (出願), (開示), 0799275 (Jan. 2008)..[出願国] ...
閲覧 酒井 士郎, 直井 美貴, チョイ ラクジュン : 無極性a面窒化ガリウム単結晶の製造方法, 特願2005-25184 (2005年3月), (開示), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 安澤 幹人, 小出 崇志 : 基材表面の改質方法,改質された表面を有する基材およびその製造方法, 特願2005-JP23177 (2005年12月), 特開WO2006/064918 (2006年6月), 特許第4117356号 (2008年5月)..[出願国] ...
閲覧 Tadamitsu Iritani and Wakabayashi Kazuhiro : DISTANCE MEASURING DEVICE, DISTANCE MEASURING METHOD AND DISTANCE MEASURING PROGRAM, (出願), (開示), 10-0779811 (Nov. 2007)..[出願国] ...
閲覧 KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2011-080098 (March 2011), KR20120112242 (Oct. 2012), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : CLEANING METHOD, PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM, JP2011-157955 (July 2011), KR20140048989 A (April 2014), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Matsuo Jiro, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE WASHING METHOD, SUBSTRATE WASHING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE, JP2012-040647 (Feb. 2012), KR20140138234 A (Dec. 2014), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : GAS CLUSTER IRRADIATION MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING SAME, AND GAS CLUSTER IRRADIATION METHOD, JP2012-150695 (July 2012), KR20150023933 A (March 2015), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2012-217539 (Sep. 2012), KR20150058253 A (May 2015), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus, JP2013-156138 (July 2013), KR20150013036 A (Feb. 2015), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, KR2014-0106977 (Aug. 2014), KR20150021462 A (March 2015), 10-1697401 (Jan. 2017)..[出願国] ...
閲覧 杉山 茂 : 1,2-アルカンジオールからの飽和アルデヒド製造方法, 特願10-2015-7018783 (2015年7月), (開示), 特許第10-2110743号 (2020年5月)..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, 永瀬 正明, 池田 信一, 山路 道雄 : インライン型濃度計及び濃度検出方法, 特願2015-7027686(Korea) (2015年10月), 特開2015-0133745 (Korea) (2015年11月), 特許第1737377号 (2017年5月)..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, 永瀬 正明, 山路 道雄, 池田 信一, 西野 巧二, 川嶋 将慈, 田中 一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032580(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134741 (2017年12月), 特許第10-2027264号 (2019年9月)..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, 永瀬 正明, 山路 道雄, 池田 信一, 西野 巧二, 川嶋 将慈, 田中 一輝 : 濃度測定装置, 特願2017-7032581(Korea) (2016年8月), 特開2017-0134742 (2017年12月), 特許第10-2082172号 (2020年2月)..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, シュウ ファン-ジュン : 成分組成計測システム及び成分組成計測方法, 特願2018-7032982 (2017年5月), (開示), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, 明府川 隆, 服部 大輝, 永瀬 正, 田中 一輝, 西野 巧二, 池田 信一 : 濃度測定装置, 特願2018-7024156(Kore) (2017年7月), (開示), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 出口 祥啓, 永瀬 正明, 池田 信一, 山路 道雄, 薬師神 忠幸 : インライン型濃度計測装置, 特願2018-7023285(Korea) (2018年8月), 特開WO2016/017122 (2016年2月), 特許第10-2128293号 (2020年6月)..[出願国] ...
閲覧 KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, (出願), CN102728580 (A) (Oct. 2012), (番号) ((年月日))..[出願国] ...
閲覧 岩﨑 智憲, 山﨑 要一 : 歯冠の誤飲・誤嚥防止具, (出願), (開示), 30-1028384 (2019年10月)..[出願国] ...
閲覧 木戸 博, 水野 大 : 合成ペプチドを含有する抗原薬物ビークルとこれを用いる粘膜ワクチン, (出願), (開示), (番号) ((年月日))..[出願国] ...

過去3日以内に登録・変更された情報

(なし)

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