『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
〔閲覧〕【特許・実用新案】
--- テーブル「特許・実用新案」（特許と実用新案の情報）は教職員が取得(出願・公開中も含む)している特許・実用新案を登録するテーブルです．
登録情報
抽出条件
| PERM= |  井内 健介
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登録情報の数
有効な情報: 30件 + 無効な情報: 4件 = 全ての情報: 34件
全ての有効な情報 (30件)
条件追加
[組織](特許・実用新案の属する組織)による分類 :
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[種別](特許・実用新案の区別)による分類 : | ||||||||||||||||||||
[出願国](出願国または国内，国外，国際の別)による分類 :[出願国](出願国または国内，国外，国際の別)による分類 : | ||||||||||||||||||||
[年月日](確定年月日)による分類
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抽出結果のリスト
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排列順: 項目表示: KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2011-080098 (March 2011), KR20120112242 (Oct. 2012), (番号) ((年月日))..[発明者] ... KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2011-080098 (March 2011), CN102728580 A (Oct. 2012), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 土橋 和也, 井内 健介, 清水 昭貴, 安田 健太, 吉野 裕, 相田 敏広, 妹尾 武彦 : 基板洗浄装置及び真空処理システム, 特願2011-080098 (2011年3月), 特開2012-216636 (2012年11月), 特許第5815967号 (2015年10月)..[発明者] ... KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2011-080098 (March 2011), TW201330139 A (July 2013), (番号) ((年月日))..[発明者] ... KAZUYA DOBASHI, Kensuke Inai, AKITAKA SHIMIZU, KENTA YASUDA, YU YOSHINO, TOSHIHIRO AIDA and TAKEHIKO SENOO : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2011-157955 (July 2011), US2012247670 (A1) (Oct. 2012), US9214364 (B2) (Dec. 2015)..[発明者] ... 井内 健介, 土橋 和也 : 洗浄方法，処理装置及び記憶媒体, 特願2011-157955 (2011年7月), 特開2013-026327 (2013年2月), 特許第5776397号 (2015年7月)..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : CLEANING METHOD, PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM, JP2011-157955 (July 2011), CN103650117 A (March 2014), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : CLEANING METHOD, PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM, JP2011-157955 (July 2011), KR20140048989 A (April 2014), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : CLEANING METHOD, PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM, JP2011-157955 (July 2011), US2014227882 A1 (Aug. 2014), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 松尾 二郎, 瀬木 利夫, 青木 学聡, 土橋 和也, 井内 健介, 斉藤 美佐子 : 板洗浄方法，基板洗浄装置及び真空処理装置, 特願2012-040647 (2012年2月), 特開2013-175681 (2013年9月), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Matsuo Jiro, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE WASHING METHOD, SUBSTRATE WASHING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE, JP2012-040647 (Feb. 2012), TW201347011 A (Nov. 2013), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Matsuo Jiro, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE WASHING METHOD, SUBSTRATE WASHING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE, JP2012-040647 (Feb. 2012), CN104137233 A (Nov. 2014), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Matsuo Jiro, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE WASHING METHOD, SUBSTRATE WASHING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE, JP2012-040647 (Feb. 2012), KR20140138234 A (Dec. 2014), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Matsuo Jiro, Seki Toshio, Aoki Takaaki, Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE WASHING METHOD, SUBSTRATE WASHING DEVICE, AND VACUUM PROCESSING DEVICE, JP2012-040647 (Feb. 2012), US2015007858 A1 (Jan. 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 井内 健介, 土橋 和也 : ガスクラスター照射機構およびそれを用いた基板処理装置，ならびにガスクラスター照射方法, 特願2012-150695 (2012年7月), 特開2014-013834 (2014年1月), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : GAS CLUSTER IRRADIATION MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING SAME, AND GAS CLUSTER IRRADIATION METHOD, JP2012-150695 (July 2012), KR20150023933 A (March 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : GAS CLUSTER IRRADIATION MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING SAME, AND GAS CLUSTER IRRADIATION METHOD, JP2012-150695 (July 2012), CN104428875 A (March 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Kensuke Inai and Dobashi Kazuya : GAS CLUSTER IRRADIATION MECHANISM, SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS USING SAME, AND GAS CLUSTER IRRADIATION METHOD, JP2012-150695 (July 2012), US2015144595 A1 (May 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 土橋 和也, 井内 健介, 斉藤 美佐子 : 基板洗浄方法，基板洗浄装置及び真空処理システム, 特願2012-217539 (2012年9月), 特開2014-072383 (2014年4月), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2012-217539 (Sep. 2012), KR20150058253 A (May 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya, Kensuke Inai and Saito Misako : SUBSTRATE CLEANING APPARATUS AND VACUUM PROCESSING SYSTEM, JP2012-217539 (Sep. 2012), US2015255316 A1 (Sep. 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 土橋 和也, 長池 宏史, 井内 健介, 藤原 馨, 布瀬 暁志 : パーティクル測定装置，半導体製造装置及びパーティクル測定方法, 特願2013-73447 (2013年3月), 特開2014-196982 (2014年10月), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus, JP2013-156138 (July 2013), US2015027501 A1 (Jan. 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus, JP2013-156138 (July 2013), KR20150013036 A (Feb. 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 土橋 和也, 井内 健介 : 基板洗浄方法及び基板洗浄装置, 特願2013-156138 (2013年7月), 特開2015-26745 (2015年2月), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus, JP2013-156138 (July 2013), TW201521104 A (June 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... 土橋 和也, 井内 健介 : 基板洗浄装置, 特願2013-170784 (2013年8月), 特開2015-41646 (2015年3月), 特許第6311236号 (2018年3月)..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, TW103127761 (Aug. 2014), TW201530630 A (Aug. 2015), (番号) ((年月日))..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, KR2014-0106977 (Aug. 2014), KR20150021462 A (March 2015), 10-1697401 (Jan. 2017)..[発明者] ... Dobashi Kazuya and Kensuke Inai : Substrate cleaning apparatus, US14/463,673 (Aug. 2014), US2015052702 A1 (Feb. 2015), 10,049,899 (Aug. 2018)..[発明者] ...
過去3日以内に登録・変更された情報
（なし）
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