『徳島大学 教育・研究者情報データベース (EDB)』---[学外] /
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閲覧 Yoshihiro Shintani, Kikuo Tominaga, Taiichirou Takawaki and Osamu Tada : Behaviours of High-Energy Electrons and Neutral Atoms in the Sputtering of BaTiO3, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.14, No.12, 1875-1879, 1975..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga : Effects of Energetic Particles in Film Growth, Topical Symposium on Sputtering, Baltimore, Oct. 1986..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 多田 修, 久米 道也 : SiO2スパッタ膜の作製における残留水分の影響, プラズマ研究会, Vol.EP-88-11, 39-43, 1988年2月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 末吉 康彦, 今井 拓, 新谷 義広 : 酸化物のスパッタリングにおける高速負イオン束のTOF法による測定, 第3回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 473-476, 1992年11月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 村山 和孝, 高尾 俊公, 森 一郎, 森賀 俊広, 中林 一朗 : ZnO:AlとZnターゲットの同時スパッタにより作製された膜の抵抗率のドナー不純物密度依存性, 応用物理学会中国四国支部例会, (巻), (号), (頁), 1997年7月..[著者] ...
閲覧 高尾 俊公, 富永 喜久雄, 福島 明彦, 森賀 俊広, 中林 一朗 : スパッタリングによるZnO:Al/Znの層状効果, 平成12年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, (巻), (号), 178, 2000年10月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 喜久間 拓也, 古谷 公平, 日下 一也, 英 崇夫, 向井 孝志 : プレーナマグネトロンスパッタリング法によるGaN膜の作製, 平成12年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, (巻), (号), 188, 2000年10月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 喜久間 拓也 : ZrO2スパッタ膜作製における高速酸素イオンの測定, 平成12年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, (巻), (号), 184, 2000年10月..[著者] ...
閲覧 福本 英範, 富永 喜久雄, 林 由佳子, 森賀 俊広, 中林 一朗 : ZnO-In2O3系透明導電性アモルファス薄膜の作製, 第49回応用物理学関係連合講演会, Vol.2, (号), 632, 2002年3月..[著者] ...
閲覧 福本 英範, 富永 喜久雄, 近藤 久美子, 林 由佳子, 村井 啓一郎, 森賀 俊広, 中林 一朗 : ZnO-In2O3系透明導電性アモルファス薄膜へのAl不純物添加, 平成14年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, (巻), (号), 176, 2002年10月..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 富永 喜久雄, 英 崇夫 : GaNスパッタ膜の結晶配向性と内部応力の基盤温度依存性, 平成14年電気関係学会四国支部連合大会講演論文集, (巻), (号), 186, 2002年10月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄 : (共著)脱ITOに向けた透明導電膜の低抵抗・低温・大面積製膜技術, 株式会社 技術情報協会, 東京, 2005年7月..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄 : ZnO系の最新技術と応用, 株式会社 シーエムシー出版, 東京, 2007年1月..[著者] ...
閲覧 井上 研一, 富永 喜久雄, 續木 貴志, 三河 通男, 森賀 俊広 : 不純物添加によるIn-Zn-O系酸化物透明導電膜の特性への影響, 平成19年度電気関係学会四国支部連合大会講演予稿集, 123, 2007年9月..[著者] ...
閲覧 坂本 晃彦, 富永 喜久雄, 下村 幸司, 瀧田 啓介, 森賀 俊広, 中林 一朗 : 1In2O3-ZnO系酸化物透明導電膜へのGa2O3添加による影響, 平成19年度電気関係学会四国支部連合大会講演予稿集, 131, 2007年9月..[著者] ...
閲覧 岡田 健司, 富永 喜久雄, 大倉 信也 : 不平衡マグネトロンスパッタ法と対向型マグネトロンスパッタ法によるTiO2膜の作製, 平成19年度電気関係学会四国支部連合大会講演予稿集, 129, 2007年9月..[著者] ...
閲覧 下村 幸司, 富永 喜久雄, 高田 大輔, 助田 祐志, 瀧田 啓介, 村井 啓一郎, 森賀 俊広 : PC基板上へのIn2O3-ZnO系酸化物透明導電膜の作製, 平成19年度電気関係学会四国支部連合大会講演予稿集, 127, 2007年9月..[著者] ...
閲覧 大倉 信也, 富永 喜久雄, 岡田 健司, 納田 隆弘, 白石 健太郎 : 対向型マグネトロンスパッタリング法によるTiO2薄膜作製と光触媒の評価, 平成19年度電気関係学会四国支部連合大会講演予稿集, 124, 2007年9月..[著者] ...
閲覧 岡田 健司, 富永 喜久雄, 大倉 信也 : RF-DC結合形スパッタ法と対向型スパッタ法によるTiO2薄膜の作製, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, Vol.2, 610, 2008年3月..[著者] ...
閲覧 坂本 晃彦, 富永 喜久雄, 下村 幸司, 植野 貴大, 瀧田 啓介, 渡辺 隆之, 森賀 俊広, 中林 一郎 : In2O3-ZnO系酸化物透明導電膜へのGa2O3添加の影響, 第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集, Vol.2, 640, 2008年3月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Akihiko Sakamoto, Takayuki Watanabe and Toshihiro Moriga : Effects of low-temperature and short-time annealing on amorphous transparent conductive oxide IZO (In2O3-ZnO) films, 6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-6), 75, Tokyo, April 2009..[著者] ...
閲覧 Masaya Nishimoto, Fumiki Nishitani, Toru Fujii, Kei-ichiro Murai, Kikuo Tominaga and Toshihiro Moriga : Deposition of IGZO thin films by co-sputtering of IZO and GZO targets with Ga2O3 pellets, 2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Sep. 2013..[著者] ...
閲覧 Wang Xinzhi, Nishimoto Masaya, Fujii Toru, Kikuo Tominaga, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga and Xu Youlong : Deposition of IGZO or ITZO Thin Films by Co-sputtering of IZO and GZO or ITO Tatgets, AMDP2014, 7th International Conference on Advanced Materials Development & Performance, 178, Busan, July 2014..[著者] ...

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