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閲覧 Kikuo Tominaga, Tatsuo Mori, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : Growth of BaTiO3 Crystals by Floating Zone Technique, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.14, No.8, 1231-1232, 1975..[著者] ...
閲覧 Yoshihiro Shintani, Kikuo Tominaga, Taiichirou Takawaki and Osamu Tada : Behaviours of High-Energy Electrons and Neutral Atoms in the Sputtering of BaTiO3, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.14, No.12, 1875-1879, 1975..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Shuji Nakamura, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : Electrical Conduction in Semiconductive BaTiO3 Single Crystals, Proc. 1st Meeting on Ferroelectric Materials and Their Applications, 265-268, Kyoto, (month)1977..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Nozomu Ueshiba, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : High-Energy Neutral Atoms in the Sputtering of ZnO, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.20, No.3, 519-526, 1981..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Satoshi Iwamura, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : Energy Analysis of High-Energy Neutral Atoms in the Sputtering of ZnO and BaTiO3, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.21, No.5, 688-695, 1982..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Satoshi Iwamura, Iwao Fujita, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : Influence of Bombardment by Energetic Atoms on c-Axis Orientation of ZnO Films, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.21, No.7, 999-1002, 1982..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Satoshi Iwamura, Yoshihiro Shintani and Osamu Tada : High-Energy Particles in AlN Film Preparation by Reactive Sputtering Technique, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.22, No.3, 418-422, 1983..[著者] ...
閲覧 Osamu Tada, Kikuo Tominaga, Toshiaki Kondo, Yoshihiro Kondo and Keiji Ichinomiya : Phospher Depreciation by Ion Bombardment, Journal of Elecrochemical Society, Vol.131, No.6, 1365-1369, 1984..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takayuki Yuasa and Michiya Kume : Mean Free Path of Energetic Oxygen Atoms in the Sputtering of ZnO, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.23, No.7, 924-925, 1984..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Michiya Kume, Takayuki Yuasa and Osamu Tada : Energy Distribution of Energetic Oxygen Atoms in the Sputtering of ZnO, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.24, No.1, 35-39, 1985..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takayuki Yuasa, Michiya Kume and Osamu Tada : Influence of Energetic Oxygen Bombardment on Conductive ZnO Films, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.24, No.8, 944-949, 1985..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Michiya Kume, Takayuki Yuasa and Osamu Tada : High-Energy Oxygen Atoms in ZnO Film Preparation by Reactive Sputtering of Zn, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.24, No.Suppl.24-3, 28-30, 1985..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄 : RFスパッタリングにおける高速粒子のTime-of-flight法による観測, アイオニクス, Vol.15, No.10, 55-60, 1986年..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga : Effects of Energetic Particles in Film Growth, Topical Symposium on Sputtering, Baltimore, Oct. 1986..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takayuki Yuasa, Kenji Kuroda and Osamu Tada : Observation of Energetic Particles in Sputtering by Time-of-Flight Measurement, Proc. 8th International Symposium on Plasma Chemistry, 885-890, (都市), Sep. 1987..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takayuki Yuasa, Kenji Kuroda and Osamu Tada : Energetic Oxygen Atoms in RF Sputtering of ZnO, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.26, No.Suppl.26-2, 22-25, 1987..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 多田 修, 久米 道也 : SiO2スパッタ膜の作製における残留水分の影響, プラズマ研究会, Vol.EP-88-11, 39-43, 1988年2月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, kenji Kuroda and Osamu Tada : Radiation Effect due to Energetic Oxygen Atoms on Conductive Al-doped ZnO Films, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.27, No.7, 1176-1180, 1988..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Michiya Kume and Osamu Tada : Time-of-flight Measurement of Particles in SiO2 Sputtering, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.27, No.12, 2414-2415, 1988..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga and Yoshihiro Shintani : AlN Film Preparation on Glass by Sputtering System with Facing Targets, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.28, No.Suppl.28-2, 7-10, 1989..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga : Preparation of AlN Films by Planar Magnetron Sputtering System with Facing Two Targets, Vacuum, Vol.41, No.4-6, 1154-1156, 1990..[著者] ...
閲覧 浜口 智尋, 福井 萬壽夫, 富永 喜久雄 : 電気磁気1 (electro magnetics 1,in japanese), 森北出版, 東京, 1990年8月..[著者] ...
閲覧 浜口 智尋, 福井 萬壽夫, 富永 喜久雄 : 電気磁気2(electro magnetics 2,in japanese), 森北出版, 東京, 1991年3月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Masaki Shirai and Hiroshi Imai : Reactive Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets of Zn, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.30, No.9B, 2216-2219, 1991..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : AlN Sputtered Film Properties at Low Gas Pressures by Facing Target System, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.30, No.10, 2574-2580, 1991..[著者] ...
閲覧 Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Haruo Fujiwara : Residual Stress in Al and AlN Thin Films Deposited by Sputtering, Residual Stress Science and Technology, Vol.1, 728-734, 1992..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Hiroshi Imai, Yasuhiko Sueyoshi and Masaki Shirai : Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets, Surface & Coatings Technology, Vol.54/55, 143-147, 1992..[著者] ...
閲覧 英 崇夫, 富永 喜久雄, 藤原 晴夫 : c軸配向した窒化アルミニウム膜のX線的残留応力解析, 材料, Vol.42, No.472, 90-95, 1992年..[著者] ...
閲覧 Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Haruo Fujiwara : Residual Stresses in Al and AlN Thin Films Deposited By Sputtering, Residual Stresses III -Science and Technology-, Vol.1, 728-734, London and New York, Jan. 1992..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.6A, 1868-1869, 1992..[著者] ...
閲覧 英 崇夫, 富永 喜久雄, 藤原 晴夫, 日下 一也 : スパッタリング生成によるAlN膜の残留応力の基板温度依存性, 第28回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 93-98, 1992年7月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Masaki Shirai : Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.31, No.9B, 3009-3012, 1992..[著者] ...
閲覧 Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka, Kikuo Tominaga and Haruo Fujiwara : Dependence of Substrate and Its Temperature on Residual Sress Development in AlN Films Deposited on Glasses by Magnetron Sputtering Method, Proceedings of International Symposium on Nondestructive Testing & Stress-Strain Measurement, (巻), (号), 516-523, Tokyo, Oct. 1992..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 末吉 康彦, 今井 拓, 新谷 義広 : 酸化物のスパッタリングにおける高速負イオン束のTOF法による測定, 第3回粒子線の先端的応用技術に関するシンポジウム, 473-476, 1992年11月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Hiroshi Imai and Yasuhiko Sueyoshi : Influence of Plasma Exposure on AlN Films in the Preparation by Facing Targets Sputtering System, Surface & Coatings Technology, Vol.61, 182-186, 1993..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Yoshihiro Shintani : Transparent Conductive ZnO:Al Films Prepared by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets, Surface & Coatings Technology, Vol.61, 683-687, 1993..[著者] ...
閲覧 英 崇夫, 日下 一也, 富永 喜久雄, 藤原 晴夫 : スパッタリング生成によるAlN薄膜の残留応力の基板および基板温度依存性, 材料, Vol.42, No.477, 627-633, 1993年..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : プレーナマグネトロンスパッタリング生成によるAlN膜の結晶配向性と残留応力のプラズマ汚染の影響, 第29回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 63-68, 1993年7月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai and Yoshihiro Shintani : Film Preparation of ZnO in Ar Gas by Planar Magnetron Sputtering System with Facing ZnO Targets, Proc. 11th International Symposium on Plasma Chemistry, Vol.3, 841-846, (都市), Aug. 1993..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Munfei Chong and Yoshihiro Shintani : Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.32, No.9B, 4131-4135, 1993..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yasuhiko Sueyoshi, Hiroshi Imai, Munfei Chong and Yoshihiro Shintani : Simultaneous Measurements of Energetic O- Ions and O Atoms in Sputtering of Zincoxide Target, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.32, No.10, 4745-4749, 1993..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 新谷 義廣 : 酸化亜鉛のスパッタリングにおける高速粒子のエネルギー評価とその成長膜への影響, 応用物理学会誌, Vol.62, No.12, 1230-1233, 1993年12月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Masahiro Kataoka, Tetsuya Ueda, Yoshihiro Shintani and Ichiro Mori : Preparation of Conductive ZnO:Al Films by a Facing Target System with a Strong Magnetic Field, Thin Solid Films, Vol.253, 9-13, 1994..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Munfei Chong and Yoshihiro Shintani : Energetic Particles in the Sputtering of an Indium-tin Oxide Target, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.12, No.4, 1435-1438, 1994..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : プレーナマグネトロンスパッタリング生成したAlN膜の結晶配向性と残留応力の窒素ガス圧依存性, 第43期学術講演会論文集, (巻), (号), 151-152, 1994年5月..[著者] ...
閲覧 Takao Hanabusa, Kazuya Kusaka and Kikuo Tominaga : Residual Stress in Aluminum Nitride Films Deposited on Glass Substrate by Magnetron Sputtering Method, Proceedings of the Fourth International Conference on Residual Stresses, (巻), (号), 631-639, Baltimore, Maryland, USA, June 1994..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : プレーナマグネトロンスパッタリング生成によるAlN膜の結晶配向性と残留応力のプラズマ汚染の影響, 材料, Vol.43, No.490, 799-805, 1994年..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : アンバランスドターゲットを用いたプレーナマグネトロンスパッタリング装置で作製したAlN膜の残留応力の窒素ガス圧依存性, 第30回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 75-80, 1994年7月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Kazuya Kusaka, Mufei Chong, Takao Hanabusa and Yoshihiro Shintani : Film Degradation in AlN Preparation by Facing Target System, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.33, No.9B, 5235-5239, 1994..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effects of Substrate Temperature and Successive Annealing on Residual Stress in AlN Films Dposited by Sputtering, Proceedings of the First International Symposium on Thermal Stresses and Related Topics, (巻), (号), 599-602, Hamamatsu, June 1995..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : マグネトロンスパッタリング法で生成したAlN膜のプラズマ防止網の効果, 第31回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 135-140, 1995年7月..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Shigeki Michiue and Kikuo Tominaga : Beam Plasma Discharge: An Experimental Account, Proc. 2nd URSI-ICPIG-RIKEN Symposium on Critical Problems of Discharge and Plasma Physics and Electro-Plasma-Meteorogy, 16-17, (都市), Sep. 1995..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Shigeki Michiue and Kikuo Tominaga : Characteristics and Structure of a Beam-Plasma Discharge, Proc. 11th International Conference on Gas Discharge and Their Application, Vol.2, 474-477, (都市), Sep. 1995..[著者] ...
閲覧 Shozo Inoue, Kikuo Tominaga, Ronald P Howson and Kazuya Kusaka : Effects of Nitrogen Pressure and Ion Flux on the Properties of Direct Current Reactive Magnetron Sputtered Zr-N Films, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.A13, No.6, 2808-2813, 1995..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Masahiro Kataoka, Haruhiko Manabe, Tetsuya Ueda and Ichoro Mori : Transparent ZnO Films Prepared by Co-sputteringof ZnO:Al with Either a Zn or an Al Target, Thin Solid Films, Vol.290-291, 84-87, 1996..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Takahiro Ao and Ichiro Mori : ITO Films Prepared on c-Axis Oriented AlN Films by Facing Target Sputtering System, Transaction of the Materials Research Society of Japan, Vol.20, 554-557, (都市), (month)1996..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Shozo Inoue, R.P. Howson, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : TiN films prepared by unbalanced planar magnetron sputtering under controle of photoemission of Ti, Thin Solid Films, Vol.281-282, (号), 182-185, 1996..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Deposited by the Planar Magnetron Sputtering System, Thin Solid Films, Vol.281-282, (号), 340-343, 1996..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄, 阿尾 高広 : 交替式スパッタリング装置を用いて生成したAlN膜の残留応力測定, 第32回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 238-243, 1996年7月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Tetsuya Ueda, Masahiro Kataoka and Ichiro Mori : ITO Films prepared by Facing Target Sputtering System, Thin Solid Films, Vol.281-282, 194-197, 1996..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takahir Ao, Ichirou Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Gas pressure dependence of AlN film properties in alternating sputtering system, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.35, No.9B, 4972-4975, 1996..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami, Shin Hasebe and Kikuo Tominaga : Multi-Dimensional Solitons and its Contribution to Beam-Plasma Discharge, Proceedings of International Conference on Plasma Physics, (巻), (号), 766-769, Nagoya, Sep. 1996..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Multi-Dimensional Soliton and its Experimental Stability, Proceedings of International Conference on Physics of Dusty Plasmas, (巻), (号), 543-546, Goa, Oct. 1996..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of Plasma Protection Net on Residual Stress in AlN Films Deposited by a Magnetron Sputtering System, Thin Solid Films, Vol.290-291, (号), 260-263, 1996..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Haruhiko Manabe, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro and Ichiro Nakabayashi : Film Properties of ZnO:Al Prepared by Cosputtering of ZnO:Al and Either Zn or Al Targets, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.15, No.3, 1074-1079, 1997..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Magnetic field dependence of AlN film properties in DC facing target sputtering, 4th International symposium on sputtering & plasma processes, (巻), (号), 129-133, Kanazawa, June 1997..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Takahiro Ao : Effect of Partial Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Prepared by Sputtering System, Proceedings of the Fifth International Conference on Residual Stresses, (巻), (号), 1048-1053, Linkoeping, Sweden, June 1997..[著者] ...
閲覧 Satoshi Kumano, Nozomu Ueshina, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga, Kikuo Tominaga and Ichiro Nakabayashi : Fablication of ZnO Varistor Thin Films by RF Sputtering, Proc. 1st International Conference on Advanced Materials Development and Performance, (巻), (号), 221-225, (都市), July 1997..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Haruhiko Manabe, Ichiro Mori, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : ZnO:In Films Prepared by the Facing Target Sputtering System, Proc. 1st International Conference on Advanced Materials Development and Performance, (巻), (号), 238-243, (都市), July 1997..[著者] ...
閲覧 富永 喜久雄, 村山 和孝, 高尾 俊公, 森 一郎, 森賀 俊広, 中林 一朗 : ZnO:AlとZnターゲットの同時スパッタにより作製された膜の抵抗率のドナー不純物密度依存性, 応用物理学会中国四国支部例会, (巻), (号), (頁), 1997年7月..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Coherent Structure Emitted by an Electron Beam in a Beam-Plasma System, Proceedings of International Conference on Phenomena in Ionized Gases, (巻), (号), 266-267, Toulouse, July 1997..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of Nitrogen Gas Pressure on Residual Stress in AlN Films Deposited by Planar Magnetron Sputtering System, Proceedings of the First International Conference on Advanced Materials Development and Performance Evaluation and Application, (巻), (号), 310-315, Auckland, July 1997..[著者] ...
閲覧 細田 祐吉, 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : 対向ターゲット式スパッタリング装置を用いて作製したZnO膜の残留応力測定, 第33回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 61-65, 1997年7月..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : AlN薄膜のc軸配向性と残留応力の外部磁場依存性, 第33回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 66-71, 1997年7月..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takao Hanabusa, Kikuo Tominaga and Takahiro Ao : Effect of External Magnetic Field on Residual Stress in AlN Films Prepared by Sputtering System, Proceedings of the Second International Conference on Nitride Semiconductors, (巻), (号), 378, Tokushima, Oct. 1997..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄, 阿尾 高広 : 交替式スパッタリング法によるAlN膜の残留応力測定, 材料, Vol.46, No.12, 1429-1435, 1997年..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Effects of UV Light Irradiation and excess Zn addition on ZnO:Al film properties in sputtering process, Thin Solid Films, Vol.316, (号), 85-88, 1998..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Takahiro Ao, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Magnetic Field Dependence of AlN Films in DC Planar Magnetron Sputtering with Opposed Targets, Vacuum, Vol.51, No.4, 549-553, 1998..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Ichiro Mori, Kazuya Kusaka and Takao Hanabusa : Influence of target shape on properties of AlN sputtered film, Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes), Vol.37, (号), 5224-5226, 1998..[著者] ...
閲覧 英 崇夫, 日下 一也, 細田 祐吉, 富永 喜久雄 : 対向ターゲット式スパッタリング法により生成したZnO薄膜の残留応力測定, 第34回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 141-145, 1998年7月..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Properties of ZnO:In Film prepared by sputtering of Facing ZnO:In and Zn targets, Journal of Vacuum Science & Technology A, Vol.A16, No.3, 1213-1217, 1998..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Transparent conductive ZnO film preparation by alternative sputtering of ZnO:Al target and either Zn or Al targets, Thin Solid Films, Vol.334, (号), 35-39, 1998..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka, Takahiro Ao, Takao Hanabusa and Kikuo Tominaga : Effect of External Magnetic Field on c-axis Orientation and Residual Stress in AlN Films, Thin Solid Films, Vol.332, No.1-2, 247-251, 1998..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Norio Umezu, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Properties of films of multilayered ZnO:Al and ZnO deposited by an alternating sputtering method, Thin Solid Films, Vol.343-344, (号), 160-163, 1999..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Kazutaka Murayama, Yoshifumi Sato and Ichiro Mori : Energetic oxygen particles in the reactive sputtering of Zn targets in Ar/O2 atmosphere, Thin Solid Films, Vol.343-344, 81-84, 1999..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Cascade Collision of Fe-Atom Caused by Low Energy He-Incidence and Effect of Temperature to the Type of Defect, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Vol.153, No.1-4, 126-129, 1999..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Anomalous Electronic stopping and relaxation in the plasma and application of its theory to beam-surface interaction, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, Vol.153, No.1-4, 31-35, 1999..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Kazutaka Murayama, Ichiro Mori, Tomoko Ushiro, Kazunori Hiruta, Toshihiro Moriga and Ichiro Nakabayashi : Conductive transparent films deposited by simultaneous sputtering of zinc-oxide and indium-oxide targets, Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 235-236, Kanazawa, June 1999..[著者] ...
閲覧 Tomoko Ushiro, Daisuke Tsuji, Kazutaka Murayama, Toshihiro Moriga, Kikuo Tominaga and Ichiro Nakabayashi : Structural Variation of Thin Films Deposited from Zn3In2O6 Target by rf-Sputtering, Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, (巻), (号), 213-214, Kanazawa, June 1999..[著者] ...
閲覧 Kikuo Tominaga, Yoshifumi Sato, Kazutaka Murayama and Ichiro Mori : Relation between the flux of Energetic oxygen ions and thesputtered metal atoms in oxide film deposition by reactive sputtering, Proceedings of the fifth International Symposium on Sputtering and Plasma Process, 28-29, Kanazawa, June 1999..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Wave Coupling between an Envelope Soliton and an Ion Wave in a Nonlinear Beam-Plasma Interacting System, Proceedings of International Conference on Phenomena in Ionized Gases, (巻), (号), 155-156, Warsow, July 1999..[著者] ...
閲覧 Ichiro Mori, Toshifumi Morimoto, Retsuo Kawakami and Kikuo Tominaga : Detection of Particle-Like Wave-Packets by Using a Time of Flight Method of an Envelope Soliton, Proceedings of International Conference on on Phenomena in Ionized Gases, (巻), (号), 73-74, Warsow, July 1999..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : 直流スパッタAlN膜の結晶配向性および残留応力の膜厚依存性, 第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 109-114, 1999年9月..[著者] ...
閲覧 谷口 大輔, 日下 一也, 英 崇夫, 富永 喜久雄 : AlNスパッタリング膜の結晶配向性および残留応力の放電電力依存性, 第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, (巻), (号), 115-119, 1999年9月..[著者] ...
閲覧 Hong Xing Wang, Tao Wang, Mohamed Lachab, Yasuhiro Ishikawa, Maosheng Hao, Koichi Oyama, Katsushi Nishino, Shiro Sakai and Kikuo Tominaga : Growth of a GaN layer on a glass substrate by metal organic chemical vapor deposition, Journal of Crystal Growth, Vol.206, No.3, 241-244, 1999..[著者] ...
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閲覧 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : ArおよびKrでRFプラズマエッチングしたGaN結晶の表面組成分析, 第70回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 189, 2009年9月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 : 容量結合型KrプラズマによるGaNエッチングダメージ解析, 第70回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 188, 2009年9月..[著者] ...
閲覧 丸尾 洋一, 大森 悠丘, 渡邊 隆之, 富永 喜久雄, 村井 啓一郎, 森賀 俊広 : 有機高分子基板上に製膜したZnO-In2O3系, 日本材料学会四国支部 第6回夏季材料セミナー, (巻), (号), (頁), 2009年9月..[著者] ...
閲覧 稲岡 武, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 : 非対称放電系容量結合型RFクリプトンプラズマの放電及び発光特性, 平成21年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 30, 2009年9月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 新部 正人, 向井 孝志 : クリプトンとアルゴンプラズマによる窒化ガリウムエッチングダメージ, 平成21年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 29, 2009年9月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収計測によるダメージ解析, 第45回X線分析討論会, 2009年11月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収測定によるダメージ解析, 第23回日本放射光学会年会, 2010年1月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : プラズマエッチングしたGaN結晶のNEXAFS測定によるダメージ解析, 2010先端技術セミナー,高度産業科学技術研究所主催, 2010年3月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 福留 利章, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : UV-LED光触媒反応によるクライマクテリック型果実の汎用型鮮度維持技術の開発研究, LED総合フォーラム2010 in 徳島, (巻), 89-92, 2010年4月..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 富永 喜久雄 : 電源の異なる二種類のスパッタリング法で堆積させた2層の窒化アルミニウム薄膜の残留応力測定, 第44回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 105-109, 2010年7月..[著者] ...
閲覧 大森 悠丘, 丸尾 洋一, 村井 啓一郎, 富永 喜久雄, 森賀 俊広 : 対向ターゲット式DCスパッタリング装置を用い電流比を変化させて作製したIZO薄膜の特性, 応用物理学会中国四国支部 日本物理学会中国支部・四国支部 日本物理教育学会中国四国支部 2010年度支部学術講演会, 2010年7月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : GaNの容量結合型RFヘリウムプラズマエッチダメージ, 第71回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 08-132, 2010年9月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 前田 佳恵, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : Ar, KrおよびXeガスを用いてRFプラズマエッチングしたn-GaN 結晶の表面分析, 第71回秋季応用物理学会学術講演会論文集, No.1, 08-133, 2010年9月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 小西 将士, 森 祐太, 兒玉 宗久, 富永 喜久雄 : TiO2光触媒へのDBDエアプラズマトリートメント効果, 平成22年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 20, 2010年9月..[著者] ...
閲覧 武市 敦, 川上 烈生, 新部 正人, 稲岡 武, 向井 考志, 小西 将士, 森 祐太, 兒玉 宗久, 富永 喜久雄 : ヘリウムとアルゴンプラズマによる窒化ガリウムエッチングダメージ, 平成22年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 21, 2010年9月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : プラズマエッチングしたGaN結晶のN-K吸収測定によるダメージ解析II, 第24回日本放射光学会年会, 2011年1月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : 希ガスプラズマでエッチングしたn-GaN結晶のNEXAFS測定によるダメージ解析, 2011先端技術セミナー,高度産業科学技術研究所主催, 65, 2011年3月..[著者] ...
閲覧 中野 由崇, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : GaN のプラズマエッチング損傷のフォトルミネッセンス評価, 第58回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2011年3月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 武市 敦, 兒玉 宗久, 新居 厚子, 小倉 長夫, 小西 将士, 森 祐太, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : UV-LED光触媒酸化とプラズマジェット殺菌作用による果実の鮮度保持テクノロジーの研究開発, LED総合フォーラム2011 in 徳島, 105-106, 2011年6月..[著者] ...
閲覧 日下 一也, 富永 喜久雄 : 金属-セラミックス傾斜機能薄膜の金属界面層の残留応力測定, 第45回X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集, 111-114, 2011年7月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 武市 敦, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : 容量性結合N2プラズマによるGaNエッチングダメージ, 第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-109, 2011年8月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 中野 由崇, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : HeおよびArガスを用いてプラズマエッチングしたn-GaN結晶の表面ダメージ分析, 第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-110, 2011年8月..[著者] ...
閲覧 中野 由崇, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : プラズマエッチング損傷GaNのフォトルミネッセンス評価, 第72回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-111, 2011年8月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 武市 敦, 新部 正人, 森 祐太, 小西 将士, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : TiO2薄膜のHeプラズマエッチングダメージ, 平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 38, 2011年9月..[著者] ...
閲覧 武市 敦, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : Ar/Krプラズマイオンと紫外線のシナジー効果によるn-GaNエッチングダメージ, 平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 39, 2011年9月..[著者] ...
閲覧 森 祐太, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 小西 将士, 小高 拓也, 松永 史彦, 高崎 敏英, 北野 尊宣, 宮崎 隆弘, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : DBD He/Air プラズマトリートメントによるTiO2薄膜表面の分析, 平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 40, 2011年9月..[著者] ...
閲覧 小西 将士, 川上 烈生, 新部 正人, 武市 敦, 森 祐太, 小高 拓也, 中野 由崇, 稲岡 武, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : 窒素プロセシングプラズマによるn-GaNエッチングダメージ, 平成23年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 41, 2011年9月..[著者] ...
閲覧 中野 由崇, 中村 圭二, 新部 正人, 川上 烈生, 伊藤 慎祥, 小高 拓也, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : GaNのArプラズマエッチングへのUV 光照射効果, 第59回春季応用物理学会学術講演会, No.1, 2012年3月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 武市 敦, 髙月 成俊, 大塩 誠二, 小倉 長夫, 小西 将士, 森 祐太, 桜間 健太郎, 稲岡 武, 富永 喜久雄 : UV/OHラジカルジェット殺菌と可視光LED光触媒酸化還元による果実の鮮度保持技術, LED総合フォーラム2012 in 徳島, 103-104, 2012年4月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 : 軟X線吸収分光法によるTiO2薄膜のエッチングダメージの解析, 第73回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-088, 2012年9月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 森 祐太, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : 容量性結合アルゴンプラズマによるp-GaNエッチングダメージ, 第73回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 08-085, 2012年9月..[著者] ...
閲覧 小西 将士, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 森 祐太, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄, 向井 孝志 : p-GaNとn-GaNにおけるAr プラズマエッチングダメージ, 平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 49, 2012年9月..[著者] ...
閲覧 川上 烈生, 新部 正人, 竹内 日出雄, 森 祐太, 小西 将士, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄 : ArプラズマによるSiCエッチングダメージ, 平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 50, 2012年9月..[著者] ...
閲覧 森 祐太, 川上 烈生, 新部 正人, 中野 由崇, 小西 将士, 小高 拓也, 白濱 達夫, 山田 哲也, 富永 喜久雄 : 二酸化チタン配合フッ素樹脂へのDBDエアプラズマトリートメント, 平成24年度電気関係学会 四国支部連合大会 講演論文集, 52, 2012年9月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 佐野 桂治, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 : エッチングしたTiO2薄膜の軟X線照射による乱れた構造の回復, 第48回X線分析討論会, 2012年10月..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 佐野 桂治, 小高 拓也, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 : 軟X線照射によるTiO2薄膜の乱れた構造の回復, 第26回日本放射光学会年会 放射光科学合同シンポジウム, 2013年1月..[著者] ...
閲覧 Kazuya Kusaka and Kikuo Tominaga : Residual stress measurement in metal interlayer of metal-ceramics functionally graded thin film, Proceedings of the twelfth international symposium on sputtering & plasma processes, 142-145, Kyoto, July 2013..[著者] ...
閲覧 新部 正人, 佐野 桂治, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 : SXおよびUV照射によるTiO2薄膜のエッチングダメージの回復, 第74回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 07-059, 2013年9月..[著者] ...
閲覧 佐野 桂治, 新部 正人, 川上 烈生, 富永 喜久雄, 中野 由崇 : XASスペクトルに見られるTiO2薄膜のエッチングダメージ回復現象の条件評価, 第74回秋季応用物理学会学術講演会, No.1, 06-113, 2013年9月..[著者] ...
閲覧 Masaya Nishimoto, Fumiki Nishitani, Toru Fujii, Kei-ichiro Murai, Kikuo Tominaga and Toshihiro Moriga : Deposition of IGZO thin films by co-sputtering of IZO and GZO targets with Ga2O3 pellets, 2013 JSAP-MRS Joint Symposia, Kyoto, Sep. 2013..[著者] ...
閲覧 Wang Xinzhi, Nishimoto Masaya, Fujii Toru, Kikuo Tominaga, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga and Xu Youlong : Deposition of IGZO or ITZO Thin Films by Co-sputtering of IZO and GZO or ITO Tatgets, AMDP2014, 7th International Conference on Advanced Materials Development & Performance, 178, Busan, July 2014..[著者] ...
閲覧 Xinzhi Wang, Masaya Nishimoto, Tohru Fujii, Kikuo Tominaga, Kei-ichiro Murai, Toshihiro Moriga and Youlong Xu : Deposition of IGZO or ITZO thin films by co-sputtering of IZO and GZO or ITO targets, Advanced Materials Research, Vol.1110, 197-202, 2014..[著者] ...

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