徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/Umezu Norio/Manabe Haruhiko/Mori Ichiro/[森賀 俊広]/[中林 一朗]/ZnO:In Films Prepared by the Facing Target Sputtering System/Proc. 1st International Conference on Advanced Materials Development and Performance

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EID
86177
EOID
707256
Map
0
LastModified
2013年8月27日(火) 12:00:45
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
森賀 俊広
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
  2. 徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Umezu Norio
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Manabe Haruhiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Mori Ichiro
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 森賀 俊広([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  6. 中林 一朗
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) ZnO:In Films Prepared by the Facing Target Sputtering System

副題 任意
要約 任意

(日) 酸化亜鉛膜にインジウムやアルミニウムを添加して透明導電膜を作製するできることが知られている.本論文は,不純物ドナーとしてインジウムtpアルミニウムの差異について,対向ターゲットプレーナマグネトロンスパッタ装置で実際に巻くを作製してひかくしたものである.この方式での作製は高速酸素による膜衝撃がないより理想的な状態で膜作製ができるため,比較検討に都合がよいてめである.最適の酸化インジウム添加量は3wt%で,基板温度は150℃であった.基板温度を300℃以上にすると,インジウムの差異蒸発が起こり,低効率の上昇を引き起こす.亜鉛の過剰供給はインジウムの再蒸発もしくは格子位置からの排除を促した.この点はアルミニウム添加の酸化亜鉛とは反対の効果である.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proc. 1st International Conference on Advanced Materials Development and Performance
ISSN 任意
必須
必須
必須 238 243
都市 必須
年月日 必須 1997年 7月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意