徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/Sueyoshi Yasuhiko/Imai Hiroshi/[新谷 義廣]/Film Preparation of ZnO in Ar Gas by Planar Magnetron Sputtering System with Facing ZnO Targets/Proc. 11th International Symposium on Plasma Chemistry

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EID
86077
EOID
707161
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 16:31:49
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 国際会議
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sueyoshi Yasuhiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Imai Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Film Preparation of ZnO in Ar Gas by Planar Magnetron Sputtering System with Facing ZnO Targets

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文では,透明電極用酸化亜鉛薄膜を対向ターゲット式スパッタ法で作製して,低抵抗化に影響する要因について検討した.不純物を添加しない酸化亜鉛導電膜と,アルミニウムをドナーとして添加した膜を比較して,それらの電気的,光学的特性の差異を示した.酸素欠損がドナーとして働くものの,多くなりすぎると結晶中に多くの欠陥を有機するために,不純物を添加しない酸化亜鉛の抵抗率の低下には限度がある.これに対して,アルミニウムを添加した場合は,相対的に結晶粒成長が促進され,抵抗率の低下がはかられるることを示した.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proc. 11th International Symposium on Plasma Chemistry
ISSN 任意
必須 3
必須 ---
必須 841 846
都市 必須
年月日 必須 1993年 8月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意