徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Sueyoshi Yasuhiko/Chong Munfei/[新谷 義廣]/Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85930
EOID
707162
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 16:31:49
Operator
三木 ちひろ
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TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sueyoshi Yasuhiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Chong Munfei
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Energetic O- Ions and O Atoms in Planar Magnetron Sputtering of ZnO Target

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,スパッタ時に発生する高速酸素負イオンと高速中性酸素原子を飛行時間法で測定したものである.理論的に導いた各々の粒子のガス圧依存性と,実験データと比較して解析を進めた.アルゴン酸素混合ガスの酸素比をパラメータにした.中性酸素原子の衝突断面積はあまり酸素比に依存せず,酸素負イオンのそれは0.6-0.7で最大となる.ターゲット表面での酸素負イオンはあるごん酸素混合ガス中の酸素比が0.6で最も大きくなり,0.2のとき最小となる.

キーワード 推奨
  1. (英) reactive sputtering of ZnO
  2. (英) energetic negative O ions
  3. (英) time-of-flight measurement
  4. (英) production mechanism of O^- ions
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 32
必須 9B
必須 4131 4135
都市 任意
年月日 必須 1993年 9月 30日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003900351/
DOI 任意 10.1143/JJAP.32.4131    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003900351
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意