徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Sueyoshi Yasuhiko/Imai Hiroshi/Shirai Masaki/Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85926
EOID
707156
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 16:31:49
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sueyoshi Yasuhiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Imai Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Shirai Masaki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Influence of Energetic Particles on ZnO Films in the Preparation by Planar Magnetron Sputtering with Obliquely Facing Targets

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ法で酸化亜鉛薄膜を作製するとき,基板に直接高速酸素負イオンと高速中性酸素原子が飛来するような配置で膜作製を行い,酸素ガス圧と基板温度を変化して酸化亜鉛膜の結晶粒成長やc軸配向度,光透過率への影響を調べた.基板温度200℃で,ガス圧0.1Torrではほとんど影響がなくなり,0.01Torrでは中程度の,0.001Torr でが顕著な影響が見られた.これは膜中に欠陥が誘起されたものといえる.基板温度を350℃に上昇したとき,この影響はやはり残ることを示した.

キーワード 推奨
  1. (英) film bombardment
  2. (英) ZnO films
  3. (英) facing target system
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 31
必須 9B
必須 3009 3012
都市 任意
年月日 必須 1992年 9月 30日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003901024/
DOI 任意 10.1143/JJAP.31.3009    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003901024
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意