徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Sueyoshi Yasuhiko/Imai Hiroshi/Shirai Masaki/Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85925
EOID
707155
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 16:31:48
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術レター(ショートペーパー)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sueyoshi Yasuhiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Imai Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Shirai Masaki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Damage in ZnO Film Preparation by Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Target of Zn

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ法で酸化亜鉛膜を作製するとき,2つのターゲットの傾斜角を大きくし,ターゲット消耗部から高速酸素負イオンや高速酸素原子が基板位置に直接飛来してくるようになると,まくの品質が低下することを,実験的に証明した.この結果は,良質膜を作製するための装置の設計に役立つ.

キーワード 推奨
  1. (英) film damage
  2. (英) energetic particles
  3. (英) planar magnetron sputtering
  4. (英) facing targets
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 31
必須 6A
必須 1868 1869
都市 任意
年月日 必須 1992年 6月 15日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003900794/
DOI 任意 10.1143/JJAP.31.1868    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003900794
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意