徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Imai Hiroshi/Shirai Masaki/AlN Sputtered Film Properties at Low Gas Pressures by Facing Target System/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85923
EOID
707140
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:50:58
Operator
三木 ちひろ
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TRUE
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0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Imai Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Shirai Masaki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) AlN Sputtered Film Properties at Low Gas Pressures by Facing Target System

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ装置で窒化アルミニウム膜を低窒素ガス圧で作製するとき,膜の着色,剥がれ現象が生ずることを示した.結晶軸の配向度の低下,光透過率における吸収端での特性劣化,組成のずれ(窒素過剰)の実験結果から,窒素イオンによる膜衝撃がおこっていることを示した.

キーワード 推奨
  1. (英) AlN film
  2. (英) planar magnetron sputtering
  3. (英) film degradation
  4. (英) facing target sputtering system
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 30
必須 10
必須 2574 2580
都市 任意
年月日 必須 1991年 10月 15日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003902024/
DOI 任意 10.1143/JJAP.30.2574    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003902024
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意