徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Shirai Masaki/Imai Hiroshi/Reactive Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets of Zn/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85832
EOID
707139
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:50:58
Operator
三木 ちひろ
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TRUE
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0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Shirai Masaki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Imai Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Reactive Planar Magnetron Sputtering System with Obliquely Facing Targets of Zn

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,斜め対向ターゲット式スパッタ装置を用い,金属亜鉛から反応性スパッタ法で酸化亜鉛膜を作製すると,通常のスパッタ装置により得られる結晶軸配向度よりも良好な膜が得られることを示した.たた,低ガス圧では表面平坦性も向上することを示した.これらは,高速酸素原子,イオンの膜衝撃を軽減した結果であることを考察した.

キーワード 推奨
  1. (英) planar magnetron sputtering
  2. (英) ZnO
  3. (英) reactive sputtering
  4. (英) facing targets
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 30
必須 9B
必須 2216 2219
都市 任意
年月日 必須 1991年 9月 30日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003902710/
DOI 任意 10.1143/JJAP.30.2216    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003902710
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意