徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/[新谷 義廣]/AlN Film Preparation on Glass by Sputtering System with Facing Targets/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85825
EOID
707135
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:50:58
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) AlN Film Preparation on Glass by Sputtering System with Facing Targets

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,圧電性窒化アルミニウム薄膜を著者の開発した対向ターゲット式プレーナマグネトロンスパッタ装置を用いて作製した.この方式が従来法のプレーナマグネトロンスパッタよりも低ガス圧で膜作製ができることを確認した.また,圧電性能の良い,c軸配向度の高い膜を得る場合,窒素雰囲気ガス圧に最適値があるという結果を得た.また,常温近くまでの基板温度で結晶膜が得られ,基板温度の制御も容易であるなどの利点があることを示した.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(resolved by 0021-4922)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1347-4065)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 28
必須 Suppl.28-2
必須 7 10
都市 任意
年月日 必須 1989年 10月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意