徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/Kume Michiya/Tada Osamu/Time-of-flight Measurement of Particles in SiO2 Sputtering/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85818
EOID
707125
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:02:52
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術レター(ショートペーパー)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Kume Michiya
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Tada Osamu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Time-of-flight Measurement of Particles in SiO2 Sputtering

副題 任意
要約 任意

(日) シリコン半導体のパッシベーション用膜としてのSiO2のスパッタ膜作製において,従来から残留水分が膜形成速度に大きく関係することが指摘されていたが,本論文では,この現象を著者の開発した飛行時間法プローブを用いて,膜作製と同時にターゲット表面の水分の多少を観測し,その量がまく形成速度に関係することを証明したものである.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(resolved by 0021-4922)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1347-4065)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 27
必須 12
必須 2414 2415
都市 任意
年月日 必須 1988年 12月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意