徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Kume Michiya/Yuasa Takayuki/Tada Osamu/High-Energy Oxygen Atoms in ZnO Film Preparation by Reactive Sputtering of Zn/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85805
EOID
707118
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 15:02:52
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Kume Michiya
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Yuasa Takayuki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Tada Osamu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) High-Energy Oxygen Atoms in ZnO Film Preparation by Reactive Sputtering of Zn

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,アルゴン+酸素混合ガス中で反応性スパッタを行い,圧電性酸化亜鉛膜を作製したときの,膜の圧電性能と酸素分圧との関係を調べたものである.飛行時間測定法によるプローブにより膜を衝撃している酸素原子束を評価し,他方では膜形成速度等を測定した.膜結晶のc軸配向度(圧電性能に比例)の酸素分圧依存性は,主に高速酸素原子による膜の劣化と,膜形成速度の増加による膜衝撃効果の減殺を考慮すれば説明できることがわかった.

キーワード 推奨
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 24
必須 Suppl.24-3
必須 28 30
都市 任意
年月日 必須 1985年 10月 初日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003957921/
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意 110003957921
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意