徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/Iwamura Satoshi/[新谷 義廣]/Tada Osamu/High-Energy Particles in AlN Film Preparation by Reactive Sputtering Technique/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85778
EOID
707097
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 13:58:16
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Iwamura Satoshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Tada Osamu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) High-Energy Particles in AlN Film Preparation by Reactive Sputtering Technique

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文では,酸化亜鉛と同じく,圧電および光機能性材料である窒化アルミニウム薄膜をスパッタ法で作製しつつ,同時に飛行時間法によるプローブを用いて高速粒子の膜衝撃を観測した.一酸化窒素やOHや酸素原子の巻く衝撃が観測されたが,これは残留水分にその起源があることがわかった.また,膜の結晶性や光透過率の低下(膜の褐色に着色する現象)もこれら粒子の膜衝撃によることを証明した.同時に水素原子の膜衝撃の影響も調べた.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(resolved by 0021-4922)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1347-4065)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 22
必須 3
必須 418 422
都市 任意
年月日 必須 1983年 3月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意