徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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著作: [富永 喜久雄]/Ueshiba Nozomu/[新谷 義廣]/Tada Osamu/High-Energy Neutral Atoms in the Sputtering of ZnO/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85769
EOID
707094
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 13:58:16
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Ueshiba Nozomu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Tada Osamu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) High-Energy Neutral Atoms in the Sputtering of ZnO

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,UHF帯の弾性表面波フィルタや光導波機能性薄膜などの種々の応用を持つ圧電薄膜で,昨今広く実用化されている酸化亜鉛結晶の良質膜をスパッタリング法により作製するとき,膜の再スパッタ,c軸配向度の低下や圧電特性の低下等の現象と,高速中性粒子が膜を衝撃していることと関連があることを,固体表面からの2次電子放出を利用したプローブを開発して定量的に検討したものである.

キーワード 推奨
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 20
必須 3
必須 519 526
都市 任意
年月日 必須 1981年 3月 5日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110003981838/
DOI 任意 10.1143/JJAP.20.519    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 110003981838
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意