徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [新谷 義廣]/[富永 喜久雄]/Takawaki Taiichirou/Tada Osamu/Behaviours of High-Energy Electrons and Neutral Atoms in the Sputtering of BaTiO3/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
85766
EOID
707092
Map
0
LastModified
2013年8月26日(月) 13:58:16
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
著者 必須
  1. 新谷 義廣
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Takawaki Taiichirou
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Tada Osamu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Behaviours of High-Energy Electrons and Neutral Atoms in the Sputtering of BaTiO3

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,ペロブスカイト型のチタン酸バリウム薄膜を2極スパッタリング法で作製する際,ターゲット(チタン酸バリウムセラミック)と対向した位置に基板をおくと,基板が再スパッタされ,膜の形成がみられず,逆に基板がエッチングされるという現象を見出したものである.この得意な現象の原因として,ターゲット表面で跳ね返ってくる高エネルギー中性粒子による再スパッタを予想した.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(resolved by 0021-4922)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1347-4065)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 14
必須 12
必須 1875 1879
都市 任意
年月日 必須 1975年 12月 初日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意