徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/福本 英範/近藤 久美子/[林 由佳子]/[村井 啓一郎]/[森賀 俊広]/[中林 一朗]/Al-impurity-doped Transparent Conductive Oxide Films of In2O3-ZnO System/[Vacuum]

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EID
82986
EOID
876305
Map
0
LastModified
2017年11月28日(火) 17:50:09
Operator
大家 隆弘
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
森賀 俊広
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Write
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継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
  2. 徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Fukumoto Hidenori / (日) 福本 英範 / (読) ふくもと ひでのり
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《福本 英範 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 2002年4月〜2004年3月》
    《福本 英範 () @ 工学部 [学部学生] 1996年4月〜2002年3月》
    この情報が学生所属組織の業績等に分類されるためには学籍番号の登録が必要です.テキスト記載の個人が上記に掲げた個人本人ならば,学籍番号の登録を行ってください.(編集画面では学籍番号が表示されます)
  3. (英) Kondo Kumiko / (日) 近藤 久美子 / (読) こんどう くみこ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《近藤 久美子 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 2002年4月〜2004年3月》
    《近藤 久美子 () @ 工学部 [学部学生] 1998年4月〜2002年3月》
    この情報が学生所属組織の業績等に分類されるためには学籍番号の登録が必要です.テキスト記載の個人が上記に掲げた個人本人ならば,学籍番号の登録を行ってください.(編集画面では学籍番号が表示されます)
  4. 林 由佳子
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 村井 啓一郎([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  6. 森賀 俊広([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  7. 中林 一朗
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Al-impurity-doped Transparent Conductive Oxide Films of In2O3-ZnO System

副題 任意
要約 任意

(日) ZnO-In2O3系の透明導電膜へのAl2O3の添加効果について調べた.Al2O3を添加しないときには,アモルファス相の膜において,低抵抗率がえられる組成比δ=Zn/(Zn+In)の範囲は0.2∼0.4と狭いが,A2O3を3wt%添加すると,2∼4x10-4Ωcmの範囲の組成比は0.3∼0.6と広がる.また,Al2O3=2wt%の膜の光学的バンドギャップが添加しない場合のそれよりも小さくなるband shrinkageを示すが,3wt%添加ではバンドの広がりが観測された.ホモロガス(結晶)相においては,Al2O3の添加量とともに光学的バンドギャップは広がる.これはAl2O3が格子を歪ませている結果であると考えられる.Al2O3の添加はアモルファス膜の抵抗率には大きな変化は与えないが,ホモロガス(結晶)膜ではキャリア密度を減少させ,抵抗率を上昇させた.

キーワード 推奨
  1. (英) amorphous transparent conductive oxide films
  2. (英) ZnO
  3. (英) In2O3
  4. (英) TCO film
  5. (英) ZINC-OXIDE
  6. (英) TARGETS
  7. (英) ZNO
発行所 推奨 Elsevier Science
誌名 必須 Vacuum([Elsevier Science])
(pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
ISSN 任意 0042-207X
ISSN: 0042-207X (pISSN: 0042-207X, eISSN: 1879-2715)
Title: Vacuum
Title(ISO): Vacuum
Publisher: Elsevier Ltd.
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 74
必須 3-4
必須 683 687
都市 任意
年月日 必須 2004年 4月 初日
URL 任意
DOI 任意 10.1016/j.vacuum.2004.01.042    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意 000221843100056
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意