徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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特許・実用新案: 土橋 和也/[井内 健介]/清水 昭貴/安田 健太/吉野 裕/相田 敏広/妹尾 武彦/東京エレクトロン株式会社/岩谷産業株式会社/基板洗浄装置及び真空処理システム/20110331/20121108/20151002

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「特許・実用新案」(特許と実用新案の情報)は,教職員が取得(出願・公開中も含む)している特許・実用新案を登録するテーブルです. (この情報が属するテーブルの詳細な定義を見る)

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EID
280149
EOID
817678
Map
0
LastModified
2016年4月22日(金) 18:27:51
Operator
井内 健介
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
井内 健介
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
組織 推奨
種別 必須 特許
出願国 必須
  1. 国内
発明者 必須
  1. (日) 土橋 和也
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 井内 健介([徳島大学.四国産学官連携イノベーション共同推進機構]/[徳島大学.研究支援・産官学連携センター])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (日) 清水 昭貴
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (日) 安田 健太
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. (日) 吉野 裕
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  6. (日) 相田 敏広
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  7. (日) 妹尾 武彦
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
出願人 推奨
  1. (日) 東京エレクトロン株式会社
  2. (日) 岩谷産業株式会社
名称 必須

(日) 基板洗浄装置及び真空処理システム

要約 任意
キーワード 推奨
出願 必須 2011-080098
出願年月日 必須 2011年 3月 31日
開示 必須 2012-216636
開示年月日 必須 2012年 11月 8日
番号 必須 5815967
年月日 必須 2015年 10月 2日
備考 任意