徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: 谷口 大輔/[日下 一也]/[英 崇夫]/[富永 喜久雄]/AlNスパッタリング膜の結晶配向性および残留応力の放電電力依存性/第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集

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EID
26404
EOID
328605
Map
0
LastModified
2007年2月14日(水) 17:36:41
Operator
日下 一也
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国内講演発表
言語 必須 日本語
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  2. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. (英) Taniguchi Daisuke / (日) 谷口 大輔 / (読) たにぐち だいすけ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《谷口 大輔 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 1999年4月〜2001年3月》
    この情報が学生所属組織の業績等に分類されるためには学籍番号の登録が必要です.テキスト記載の個人が上記に掲げた個人本人ならば,学籍番号の登録を行ってください.(編集画面では学籍番号が表示されます)
  2. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. 英 崇夫
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Effect of Sputtering Power on Residual Stress and Crystal Orientation in AlN Films Deposited by RF and DC Sputtering

(日) AlNスパッタリング膜の結晶配向性および残留応力の放電電力依存性

副題 任意
要約 任意
キーワード 推奨
発行所 推奨 日本材料学会
誌名 必須 (英) Proceedings of the 35th symposium on X-ray studies on mechanical behavior of materials / (日) 第35回 X線材料強度に関するシンポジウム講演論文集 / (読) だいさんじゅうごかい えっくすせんざいりょうきょうどにかんするシンポジウムこうえんろんぶんしゅう
ISSN 任意
必須
必須
必須 115 119
都市 必須 京都(Kyoto/[日本国])
年月日 必須 1999年 9月 2日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意