徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: 松英 達也/[英 崇夫]/池内 保一/Cu/TiN二層膜のX線残留応力測定/[材料]

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EID
25924
EOID
1035822
Map
0
LastModified
2022年5月5日(木) 20:02:01
Operator
[ADMIN]
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TRUE
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承認済
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 日本語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座(〜2023年3月31日)
著者 必須
  1. (英) Matsue Tatsuya / (日) 松英 達也 / (読) まつえ たつや
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Ikeuchi Yasukazu / (日) 池内 保一 / (読) いけうち やすかず
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) X-ray Stress Measurementof Cu/TiN Films

(日) Cu/TiN二層膜のX線残留応力測定

副題 任意
要約 任意

(日) ガラス基板上のCu/TiN二層膜の残留応力と結晶構造についてX線回折法により測定した研究である.アンダーコートとしてTiN膜を形成し,その上にCu膜をRFスパッタ法により成膜した.各層の厚さを変化させて結晶構造と残留応力を測定した. Cu膜TiN 膜ともに強い{111}配向を示した.残留応力測定には2点法を用いた.Cu真訓残留応力は450∼630MPaの引張りであり,それぞれの層の厚さとともに増加した.TiN膜も引張り残留応力を有しており,約230MPaであった.加熱処理の結果,400℃以下の焼き鈍しでは残留応力の変化はなく,それ以上の焼き鈍しでは,Cu膜の応力は緩和したがTiN膜の応力は逆に増加した.

キーワード 推奨
  1. (英) Cu film
  2. (英) Titanium nitride film
  3. (英) RF sputtering
  4. (英) Arc ion plating
  5. (英) Crystal structure
  6. (英) Residual stress
  7. (英) X-ray diffraction
発行所 推奨 日本材料学会
誌名 必須 材料([日本材料学会])
(pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)
ISSN 任意 0514-5163
ISSN: 0514-5163 (pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)
Title: 材料
Supplier: 社団法人日本材料学会
Publisher: Society of Materials Science Japan
 (Webcat Plus  (J-STAGE  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 51
必須 7
必須 743 748
都市 任意 京都(Kyoto/[日本国])
年月日 必須 2002年 7月 15日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/110002301930/
DOI 任意 10.2472/jsms.51.743    (→Scopusで検索)
PMID 任意
CRID 任意 1390001205393307904
NAID 110002301930
WOS 任意
Scopus 任意 2-s2.0-0036655942
researchmap 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意