著作: Wang X Hong/Amijima Y/Ishihama Yasuhiro/[酒井 士郎]/The development of a novel three-flow six-wafer reactor of metal-organic chemical vapor deposition system for GaN-based structure/[Journal of Crystal Growth]
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種別 | 必須 | 学術論文(審査論文) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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言語 | 必須 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
招待 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
審査 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
カテゴリ | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
共著種別 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
学究種別 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
組織 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
著者 | 必須 |
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題名 | 必須 |
(英) The development of a novel three-flow six-wafer reactor of metal-organic chemical vapor deposition system for GaN-based structure |
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副題 | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
要約 | 任意 |
(日) 2インチ6枚機の仕様を持ったMOCVD機を作った.AlGaN ですべての組成を持つ混晶がえられた. |
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キーワード | 推奨 |
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発行所 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
誌名 | 必須 |
Journal of Crystal Growth([Elsevier])
(pISSN: 0022-0248)
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巻 | 必須 | 235 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
号 | 必須 | 1 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
頁 | 必須 | 173 176 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
都市 | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
年月日 | 必須 | 2002年 2月 1日 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
URL | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
DOI | 任意 | 10.1016/S0022-0248(01)01916-9 (→Scopusで検索) | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
PMID | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
NAID | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
WOS | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Scopus | 任意 | 2-s2.0-0036467093 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||
評価値 | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
被引用数 | 任意 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
指導教員 | 推奨 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||
備考 | 任意 |