徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: 高尾 俊公/[富永 喜久雄]/福島 明彦/[森賀 俊広]/[中林 一朗]/Properties of ZnO:Al films deposited by co-sputtering of ZnO:Al targets with impurities/Proc. 6th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes

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EID
22402
EOID
707266
Map
0
LastModified
2013年8月27日(火) 12:00:45
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
森賀 俊広
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨
カテゴリ 推奨
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
  2. 徳島大学.工学部.化学応用工学科.化学プロセス工学講座
著者 必須
  1. (英) Takao Toshimasa / (日) 高尾 俊公 / (読) たかお としまさ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《高尾 俊公 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 1999年4月〜2001年3月》
    この情報が学生所属組織の業績等に分類されるためには学籍番号の登録が必要です.テキスト記載の個人が上記に掲げた個人本人ならば,学籍番号の登録を行ってください.(編集画面では学籍番号が表示されます)
  2. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Fukushima Akihiko / (日) 福島 明彦 / (読) ふくしま あきひこ
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
    適合する可能性のある以下の学生情報を発見しました
    《福島 明彦 () @ 工学研究科.博士前期課程 [大学院学生] 2000年4月〜2002年3月》
    《福島 明彦 () @ 工学部 [学部学生] 1996年4月〜2000年3月》
    この情報が学生所属組織の業績等に分類されるためには学籍番号の登録が必要です.テキスト記載の個人が上記に掲げた個人本人ならば,学籍番号の登録を行ってください.(編集画面では学籍番号が表示されます)
  4. 森賀 俊広([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.応用化学系.化学プロセス工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.応用化学システムコース.化学プロセス工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 中林 一朗
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Properties of ZnO:Al films deposited by co-sputtering of ZnO:Al targets with impurities

副題 任意
要約 任意

(日) ZnO:AlとZnの同時スパッタリングで低抵抗の良好な透明導電膜が得られる.このとき,第2の不純物としてCo,Cr,Mnを添加したとき,これらの原子が結晶核としてはたらくかどうかについて検討した.その結果,これらの原子の添加はZn添加の効果をキャンセルする方向に働く.しかし,Coの添加は酸素中でのZnO:Alの抵抗率の経時変化に対する安定性を増す効果があることを見出した.

キーワード 推奨
発行所 推奨 (英) ISSP2001
誌名 必須 (英) Proc. 6th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes
ISSN 任意
必須
必須
必須 366 369
都市 必須 金沢(Kanazawa/[日本国])
年月日 必須 2001年 6月 13日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意