徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: Nakamura Nobutomo/Ogi Hirotsugu/Nitta Hiroki/Tanei Hiroshi/Fujii Makoto/[安井 武史]/Hirao Masahiko/Study of elastic anisotropy of Cu thin films by resonant-ultrasound spectroscopy coupled with laser-doppler interferometry and pump-probe photoacoustics/[Japanese Journal of Applied Physics]

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EID
220621
EOID
949760
Map
0
LastModified
2019年7月14日(日) 20:02:44
Operator
大家 隆弘
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
安井 武史
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継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 応用物理学会
著者 必須
  1. (英) Nakamura Nobutomo
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Ogi Hirotsugu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Nitta Hiroki
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Tanei Hiroshi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. (英) Fujii Makoto
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  6. 安井 武史([徳島大学.ポストLEDフォトニクス研究所]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  7. (英) Hirao Masahiko
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Study of elastic anisotropy of Cu thin films by resonant-ultrasound spectroscopy coupled with laser-doppler interferometry and pump-probe photoacoustics

副題 任意
要約 任意

(英) Understating elastic properties of thin films is a matter of deep interest both in scientific and industrial fields. In this paper, we propose a combination of resonant-ultrasound spectroscopy coupled with the laser-Doppler interferometry and pump-probe photoacoustics for measuring anisotropic elastic constants of deposited thin films. Among the five independent elastic constants, the resonant-ultrasound spectroscopy is sensitive to the in-plane elastic constants, $C_{11}$, $C_{13}$, and $C_{66}$, and pump-probe photoacoustics to the out-of-plane elastic constant, $C_{33}$. We apply this to Cu thin films deposited on monocrystalline Si substrates by the magnetron-sputtering method. Cu thin films show elastic anisotropy, $C_{33}>C_{11}$. The cause of this elastic anisotropy is attributed to the textured structure and the columnar structure. These effects are estimated by X-ray diffraction measurements and micromechanics calculations.

キーワード 推奨
  1. (英) Cu thin film
  2. (英) elastic constants
発行所 推奨 応用物理学会
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics([応用物理学会])
(pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
ISSN 任意 0021-4922
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
必須 45
必須 5B
必須 4580 4584
都市 任意
年月日 必須 2006年 5月 25日
URL 任意 http://ci.nii.ac.jp/naid/150000047164/
DOI 任意 10.1143/JJAP.45.4580    (→Scopusで検索)
PMID 任意
NAID 任意 40007278301
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意