徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/井上 省三/Howson R.P./[日下 一也]/[英 崇夫]/TiN films prepared by unbalanced planar magnetron sputtering under controle of photoemission of Ti/[Thin Solid Films]

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EID
20667
EOID
707235
Map
0
LastModified
2013年8月27日(火) 11:54:13
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
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継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Inoue Shozo / (日) 井上 省三 / (読) いのうえ しょうぞう
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Howson R.P.
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) TiN films prepared by unbalanced planar magnetron sputtering under controle of photoemission of Ti

副題 任意
要約 任意

(英) TiN films have been prepared by unbalanced planar magnetron sputtering, where the flux of sputtered Ti atoms was maintained constant by adjusting N2 gas flow during sputtering. At a set point of 75% of the Ti signal in the pure Ar gas, the film resistivity has a minimum, the film stress becomes a minimum and the appearance is most gold-like. With an increase in ion bombardment, the internal stress increases, whereas the film resistivity decreases. These results confirm that stoichiometric TiN films are prepared at the set point of 75%, where the target surface is not fully covered by TiN. The energetic ions appear to improve the properties of the TiN films.

(日) TiN膜はアンバランスドプレーナマグネトロンスパッタリングによって準備された.ここで,スパッタリング中のN2ガス流量を調整することで,スパッタされたTi原子の量が一定に保たたれた.純アルゴンガス中でTi信号の75%のセットポイントで,得られる膜の抵抗が最小となり,膜応力が最小となり,外観が金のようになる.イオン衝撃の増加とともに膜抵抗が減少するにも関わらず,内部応力が増加する.これらの結果は,化学量論組成のTiN膜が75%のセットポイントで作製されることを示す.ここで,ターゲット表面はTiNで完全には覆われていない.エネルギを持ったイオンは,TiN膜の特性の向上に現れる.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Thin Solid Films([Elsevier])
(resolved by 0040-6090)
ISSN: 0040-6090 (pISSN: 0040-6090)
Title: Thin solid films
Title(ISO): Thin Solid Films
Publisher: Elsevier Sequoia
 (NLM Catalog  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 281-282
必須
必須 182 185
都市 任意
年月日 必須 1996年 1月 1日
URL 任意 http://www.sciencedirect.com/science?_ob=ArticleURL&_udi=B6TW0-3VS9496-G4&_user=106892&_handle=B-WA-A-A-ADU-MsSAYVA-UUA-AUECWBVCDB-AUEWYACBDB-CDADAYUBA-ADU-U&_fmt=summary&_coverDate=08%2F01%2F1996&_rdoc=48&_orig=browse&_srch=%23toc%235548%231996%23997179998%2358449!&_cdi=5548&view=c&_acct=C000008258&_version=1&_urlVersion=0&_userid=106892&md5=a4be064374c4aaf5f3fabb676aa23c04
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意