著作: 松英 達也/[英 崇夫]/池内 保一/アーク·イオンプレーティング法によるTiN膜の結晶状態に対する成膜条件の影響/[材料]
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種別 | 必須 | 学術論文(審査論文) | |||
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言語 | 必須 | ||||
招待 | 推奨 | ||||
審査 | 推奨 | Peer Review | |||
カテゴリ | 推奨 | 研究 | |||
共著種別 | 推奨 | ||||
学究種別 | 推奨 | ||||
組織 | 推奨 |
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著者 | 必須 | ||||
題名 | 必須 |
(英) Effect of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating (日) アーク·イオンプレーティング法によるTiN膜の結晶状態に対する成膜条件の影響 |
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副題 | 任意 | ||||
要約 | 任意 |
(日) アークイオンプレーティングの蒸着条件がTiN膜の結晶構造に及ぼす影響をX線回折法により検討した研究である.バイアス電圧とアーク電流を変化させ,Tin膜の結晶構造に及ぼす影響を調べた.TiN膜の結晶構造は主としてバイアス電圧に影響される.0Vのとき,TiN膜は{110}配向し,-100Vでは{111}配向した.これに対して,アーク電流は結晶配向性にはほとんど影響しない. 窒素とチタンの成分比をXPSにより測定した結果,N/Ti比の最大値は0.89であり,そのとき膜は{110}および{111}の混合配となった. |
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キーワード | 推奨 | ||||
発行所 | 推奨 | 日本材料学会 | |||
誌名 | 必須 |
材料([日本材料学会])
(pISSN: 0514-5163, eISSN: 1880-7488)
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巻 | 必須 | 50 | |||
号 | 必須 | 7 | |||
頁 | 必須 | 707 712 | |||
都市 | 任意 | 京都(Kyoto/[日本国]) | |||
年月日 | 必須 | 2001年 7月 1日 | |||
URL | 任意 | ||||
DOI | 任意 | ||||
PMID | 任意 | ||||
CRID | 任意 | ||||
Scopus | 任意 | 2-s2.0-0035387628 | |||
researchmap | 任意 | ||||
評価値 | 任意 | ||||
被引用数 | 任意 | ||||
指導教員 | 推奨 | ||||
備考 | 任意 |