徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: Matsue Tatsuya/[英 崇夫]/Ikeuchi Yasukazu/Influence of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating/Materials Science Research International, Special Technical Publication

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EID
19916
EOID
535410
Map
0
LastModified
2010年11月5日(金) 15:55:17
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
承認済
Owner
[学科長]/[徳島大学.工学部.機械工学科]
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種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座(〜2023年3月31日)
著者 必須
  1. (英) Matsue Tatsuya
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Ikeuchi Yasukazu
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Influence of Processing Conditions on Structure of TiN Films Deposited by Arc Ion Plating
副題 任意
要約 任意

(日) アークイオンプレーティングにより成膜したTiN膜の成膜条件と膜の配向特性についてX線回折法により研究した論文である．バイアス電圧とアーク電流を成膜条件のパラメータとして実験した結果，膜構造に対してはバイアス電圧が重要な因子であることがわかった．バイアス電圧が0Vのときには{110}配向を示し，-100Vの条件では{111}配向特性を示すことが明らかになった．それに対して，アーク電流は膜構造に変化を与えなかった．
キーワード 推奨
発行所 推奨 日本材料学会
誌名 必須 (英) Materials Science Research International, Special Technical Publication
ISSN 任意
巻 必須 1
号 必須
頁 必須 303 306
都市 任意 京都(Kyoto/[日本国])
年月日 必須 2001年 5月 10日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
CRID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
researchmap 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意