授業概要: 2010/知的財産の基礎と活用
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種別 | 必須 | 工学部•昼間 (授業概要) | ||||||||||||||||||
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入学年度 | 必須 | 西暦 2010年 (平成 22年) | ||||||||||||||||||
名称 | 必須 |
(英) Intellectual Property / (日) 知的財産の基礎と活用 / (読) ちてきざいさんのきそとかつよう
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コース | 必須 | |||||||||||||||||||
担当教員 | 必須 | |||||||||||||||||||
単位 | 必須 | 2 | ||||||||||||||||||
目的 | 必須 |
(日) 知的財産権制度を理解し,知的財産権の保護と制度の活用の重要性を各種の事例を基に修得する. |
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概要 | 必須 |
(日) 科学技術創造立国を目指す我が国において,知的財産権の保護と制度の活用が,行政・産業界・大学・研究所にとって不可欠であるとの共通認識を持つ必要性を説くとともに,知的財産権制度の概要と,その活用法を,企業の特許戦略,特許侵害事件などの事例を紹介しつつ講義し,学生が将来,企業・大学・研究所などへ進んだ場合に知っておくべき知的財産権に関する基礎知識の修得をはかる. |
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キーワード | 推奨 | |||||||||||||||||||
先行科目 | 推奨 | |||||||||||||||||||
関連科目 | 推奨 |
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要件 | 任意 |
(日) 特になし. |
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注意 | 任意 |
(日) 2 日間の集中講義が2 回に分けて実施され,計4 日間の集中講義の全時間の出席を要する. |
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目標 | 必須 |
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計画 | 必須 |
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評価 | 必須 |
(日) 到達目標が各々達成されているかを試験70%,講義への取り組み状況30%で評価し,平均で60%あれば合格とする. |
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JABEE合格 | 任意 |
(日) 到達目標が各々達成されているかを試験100%で評価し,各々60%以上あれば合格とする. |
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JABEE関連 | 任意 |
(日) 本学科の教育目標の1(1),1(2),1(3),1(4),3(5)にそれぞれ20%対応する. |
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対象学生 | 任意 | 開講コース学生のみ履修可能 | ||||||||||||||||||
教科書 | 必須 |
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参考資料 | 推奨 |
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URL | 任意 | |||||||||||||||||||
連絡先 | 推奨 |
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科目コード | 推奨 | |||||||||||||||||||
備考 | 任意 |
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