授業概要: 2007/半導体デバイス物理特論
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- EID
- 185825
- EOID
- 712427
- Map
- [2006/無機光機能材料論]
- LastModified
- 2013年9月19日(木) 11:35:17
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- 三木 ちひろ
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- TRUE
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- 0
- Owner
- [教務委員会委員]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 |
必須 |
先端技術科学教育部 (授業概要) |
入学年度 |
必須 |
西暦 2007年 (平成 19年) |
名称 |
必須 |
(英) Semiconductor Device Physics / (日) 半導体デバイス物理特論 / (読) はんどうたいでばいすぶつりとくろん
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形態 |
推奨 |
- 講義および演習
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コース |
必須 |
- 2009/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]
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担当教員 |
必須 |
- 大野 泰夫
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単位 |
必須 |
2 |
目的 |
必須 |
(英) The purpose of this lecture is to understand the background physics which governs the electrical performances of semiconductor devices.
(日) 半導体デバイスの動作の基本となる物理と,そのデバイスの電気特性との関連を理解する.
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概要 |
必須 |
(英) The lecture gives carrier transport theory and equations based on which semiconductor electron devices including various types of transistors, high-field phenomena and short-channel effects in miniaturized transistors and deep levels which are the origin of various malfunctions in semiconductor devices.
(日) 半導体デバイス,特に各種電子デバイス,トランジスタの動作の基本となる電流輸送現象の物理,微細化トランジスタで問題となる高電界効果や短チャネル効果,デバイス動作の不良の原因となりやすい深い準位の挙動について,その物理的原理から解説する.
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キーワード |
推奨 |
- (英) Semiconductor / (日) 半導体
- (英) Device physics / (日) デバイス物理
- (英) Transistor / (日) トランジスタ
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先行科目 |
推奨 |
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関連科目 |
推奨 |
- 光半導体デバイス特論([2007/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]]/->授業概要[2006/光半導体デバイス特論])
- 無機光機能材料論([2009/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]]/->授業概要[2008/無機光機能材料論])
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要件 |
任意 |
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注意 |
任意 |
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目標 |
必須 |
(英) 1. Understand the carrier transport in semiconductors based on the Boltzmann transport equation. 2. Understand the velocity saturation effects and 2-dimensional field distribution effects in miniaturized transistors. 3. Understand the electrical behavior of deep traps in semiconductors based on Shockley-Reed-Hall statistics.
(日) 1. 電子輸送現象をボルツマン輸送方程式を元に理解する.2. 微細トランジスタにおけるキャリア速度飽和現象,2次元電界分布効果を理解する.3. 半導体における深い準位の電気的な挙動をSRH(ショックレー・リード・ホール)統計を元に理解する.
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計画 |
必須 |
(英) Characterization of crystals
(日) 結晶の特徴と記述法
(英) Symmetry elements of crystals and material constants 1
(日) 結晶の対象要素と物質定数 1
(英) Symmetry elements of crystals and material constants 2
(日) 結晶の対象要素と物質定数 2
(英) Optical properties of crystals 1
(日) 結晶の光学的性質 1
(英) Optical properties of crystals 2
(日) 結晶の光学的性質 2
(英) Electro-optical effects and nonlinear effects 1
(日) 電気光学効果と非線形光学効果 1
(英) Electro-optical effects and nonlinear effects 2
(日) 電気光学効果と非線形光学効果 2
(英) Piezoelectricity 1
(日) 圧電気現象 1
(英) Piezoelectricity 2
(日) 圧電気現象 2
(英) Acoustic waves in crystal 1
(日) 結晶中の音波1
(英) Acoustic waves in crystal 2
(日) 結晶中の音波2
(英) Interaction of phtons and phonons in crystal
(日) 結晶中の音と光
(英) Synthesis methods of thin films 1(PVD method; electron beam evaporation, MBE, sputtering, laser ablation)
(日) 薄膜の作製法1(特にPVD法:電子ビーム蒸着,MBE,スパッタリング,レーザアブレーション,イオン化蒸着)
(英) Synthesis methods of thin films 2(PVD method; electron beam evaporation, MBE, sputtering, laser ablation)
(日) 薄膜の作製法2(特にPVD法:電子ビーム蒸着,MBE,スパッタリング,レーザアブレーション,イオン化蒸着)
(英) Film properties (Charaterizations of electrical, optical and mechanical properties)
(日) 薄膜の諸性質(特徴,電気的光学的性質,機械的性質)
(英) Exercise
(日) テスト
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評価 |
必須 |
(英) Reports for each theme and examination
(日) テーマに対応するレポートと最終回の総合テストにより評価する.
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再評価 |
必須 |
(英) Reexamination is prepared for the students who get points of 40-59 % at the first examination. The students who have got points below 40 % should select a class in the next year.
(日) 再試験は第1回の試験で60-40点までの者に対しておこなう. 評価点の最高は79点とする. 第1回試験において,40点未満の場合は再受講とする.
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対象学生 |
任意 |
開講コース学生のみ履修可能 |
教科書 |
必須 |
(英) Tomoya Ogawa:Fundamentals in Crystal Engineering, Shoukabou (in Japanese) and Shunichi Gonda, Applied Handbook of Thin Film Depositions, (NTS )(in Japanese)
(日) 小川智哉著,結晶工学の基礎,裳華房;権田俊一監修,薄膜作製応用ハンドブック,エヌ·ティー·エス
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参考資料 |
推奨 |
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URL |
任意 |
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連絡先 |
推奨 |
- 大野 泰夫
- 富永 喜久雄
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科目コード |
推奨 |
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備考 |
任意 |
(英) This lecture will be given in English.
(日) 国際連携大学院担当教員科目のため英語授業となる場合がある.
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