徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

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授業概要: 2009/無機光機能材料論

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EID
182671
EOID
443556
Map
[2008/無機光機能材料論]
LastModified
2009年2月6日(金) 15:53:34
Operator
富永 喜久雄
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TRUE
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0
Owner
[教務委員会委員]/[徳島大学.工学部.電気電子工学科]
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種別 必須 先端技術科学教育部 (授業概要)
入学年度 必須 西暦 2009年 (平成 21年)
名称 必須 (英) Optical and Functional Inorganic Materials / (日) 無機光機能材料論 / (読) むきひかりきのうざいりょうろん
形態 推奨
  1. 講義および演習
コース 必須
  1. 2009/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]
担当教員 必須
  1. 富永 喜久雄
    肩書 任意
単位 必須 2
目的 必須

(日) このコースは光学的材料，機能材料のための単結晶，多結晶，アモルファス薄膜に関する材料科学の基礎について習得することを目的とする．同時に，種々の膜作製技術や材料評価技術や，結晶中の光や音響波の伝搬についても講義をする．
概要 必須

(英) Fundamentals of crystal science is lectured at first. Optical and electronic processes in optical and functional materials such as single crystals, polycrystals or amorphous films are followed. Advanced solid state physics of semiconductors, dielectric and ferroelectric materials are included. Synthesis methods of optical and functional crystals and films, evaluation methods of film properties are also contained. Electro-optical and piezo-electrical effects and solid state physics relating with their effects, characterization of crystals, symmetry elements of crystals and material constants,optical properties of crystals, electro-optical effects and nonlinear effects, piezoelectricity, acoustic waves in crystal,interaction of phtons and phonons in crystal, synthesis methods of thin films (PVD method; electron beam evaporation, MBE, sputtering, laser ablation), film properties (charaterizations of electrical, optical and mechanical properties) are included.

(日) まず，結晶工学の基礎について講義する．単結晶や多結晶あるいはアモルファス薄膜などの工光学材料や機能性材料における光学的，電子的過程について講義する．このなかには，半導体，誘電体，強誘電体を含む．上記材料の作製技術や評価技術も合わせて講義する．その中には電気光学効果や圧電効果およびそれらに関連する固体物理，結晶の対称性や材料定数のはなし，結晶の光学的性質，非線形光学効果，結晶中の音響波やフォノンやフォトンの相互作用などを含む．薄膜の作製法に関しては，スパッタリングなどのPVD法，電子ビーム蒸着，MBE法，レーザアブレーション法についておこない，膜の電気的，光学的，機械的性質の評価法についても含む．
キーワード 推奨
  1. 機能性材料(functional material)
  2. 半導体デバイス(semiconductor device)
  3. 結晶光学(crystal optics)
  4. (英) thin film technology / (日) 薄膜工学 / (読) はくまくこうがく
  5. (英) deposition techniques of thin films / (日) 薄膜合成法 / (読) はくまくごうせいほう
先行科目 推奨
関連科目 推奨
  1. 光半導体デバイス特論([2009/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.電気電子創生工学コース]/[博士後期課程]]/->授業概要[2008/光半導体デバイス特論])
    関連度 任意
  2. 非線形光学デバイス論([2009/[徳島大学.先端技術科学教育部.システム創生工学専攻.光システム工学コース]/[博士後期課程]]/->授業概要[2008/非線形光学デバイス論])
    関連度 任意
要件 任意
注意 任意
目標 必須

  1. (英) Understanding of the solid state physics of piezoelectric materials and functional thin films

    (日) 圧電性結晶や機能性薄膜についての物性を理解する．
計画 必須

  1. (英) Characterization of crystals

    (日) 結晶の特徴と記述法

  2. (英) Symmetry elements of crystals and material constants 1

    (日) 結晶の対象要素と物質定数 1

  3. (英) Symmetry elements of crystals and material constants 2

    (日) 結晶の対象要素と物質定数 2

  4. (英) Optical properties of crystals 1

    (日) 結晶の光学的性質 1

  5. (英) Optical properties of crystals 2

    (日) 結晶の光学的性質 2

  6. (英) Electro-optical effects and nonlinear effects 1

    (日) 電気光学効果と非線形光学効果 1

  7. (英) Electro-optical effects and nonlinear effects 2

    (日) 電気光学効果と非線形光学効果 2

  8. (英) Piezoelectricity 1

    (日) 圧電気現象 1

  9. (英) Piezoelectricity 2

    (日) 圧電気現象 2

  10. (英) Acoustic waves in crystal 1

    (日) 結晶中の音波1

  11. (英) Acoustic waves in crystal 2

    (日) 結晶中の音波2

  12. (英) Interaction of phtons and phonons in crystal

    (日) 結晶中の音と光

  13. (英) Synthesis methods of thin films 1(PVD method; electron beam evaporation, MBE, sputtering, laser ablation)

    (日) 薄膜の作製法1(特にPVD法:電子ビーム蒸着，MBE,スパッタリング，レーザアブレーション，イオン化蒸着)

  14. (英) Synthesis methods of thin films 2(PVD method; electron beam evaporation, MBE, sputtering, laser ablation)

    (日) 薄膜の作製法2(特にPVD法:電子ビーム蒸着，MBE,スパッタリング，レーザアブレーション，イオン化蒸着)

  15. (英) Film properties (Charaterizations of electrical, optical and mechanical properties)

    (日) 薄膜の諸性質(特徴，電気的光学的性質，機械的性質)

  16. (英) Exercise

    (日) テスト
評価 必須

(英) Reports for each theme and examination

(日) テーマに対応するレポートと最終回の総合テストにより評価する．
再評価 必須

(英) Reexamination is prepared for the students who get points of 40-59 % at the first examination. The students who have got points below 40 % should select a class in the next year.

(日) 再試験は第1回の試験で60-40点までの者に対しておこなう． 評価点の最高は79点とする． 第1回試験において，40点未満の場合は再受講とする．
対象学生 任意 開講コース学生のみ履修可能
教科書 必須

  1. (英) Tomoya Ogawa:Fundamentals in Crystal Engineering, Shoukabou (in Japanese) and Shunichi Gonda, Applied Handbook of Thin Film Depositions, (NTS )(in Japanese)

    (日) 小川智哉著，結晶工学の基礎，裳華房;権田俊一監修，薄膜作製応用ハンドブック，エヌ·ティー·エス
参考資料 推奨
URL 任意
連絡先 推奨
  1. 富永 喜久雄
    オフィスアワー 任意
科目コード 推奨
備考 任意

  1. (英) This lecture will be given in English.

    (日) 国際連携大学院担当教員科目のため英語授業となる場合がある．

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