著作: [村上 理一]/Fukui Shinichiro/[米倉 大介]/[林 澈文]/Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method/[Key Engineering Materials]
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種別 | 必須 | 学術論文(審査論文) | |||
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言語 | 必須 | 英語 | |||
招待 | 推奨 | ||||
審査 | 推奨 | Peer Review | |||
カテゴリ | 推奨 | 研究 | |||
共著種別 | 推奨 | ||||
学究種別 | 推奨 | ||||
組織 | 推奨 |
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著者 | 必須 | ||||
題名 | 必須 |
(英) Study of Boron-doped Diamond Films by Microwave Plasma CVD Method |
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副題 | 任意 | ||||
要約 | 任意 | ||||
キーワード | 推奨 | ||||
発行所 | 推奨 | Trans Tech Publications Ltd | |||
誌名 | 必須 |
Key Engineering Materials([Trans Tech Publications Ltd])
(pISSN: 1013-9826, eISSN: 1662-9795)
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巻 | 必須 | 353-358 | |||
号 | 必須 | --- | |||
頁 | 必須 | 1883 1886 | |||
都市 | 任意 | ||||
年月日 | 必須 | 2007年 10月 初日 | |||
URL | 任意 | ||||
DOI | 任意 | 10.4028/www.scientific.net/KEM.353-358.1883 (→Scopusで検索) | |||
PMID | 任意 | ||||
CRID | 任意 | ||||
WOS | 任意 | ||||
Scopus | 任意 | 2-s2.0-36048967556 | |||
評価値 | 任意 | ||||
被引用数 | 任意 | ||||
指導教員 | 推奨 | ||||
備考 | 任意 |