徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

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著作: [富永 喜久雄]/Sato Yoshifumi/Mori Ichiro/Furutani Kouhei/[日下 一也]/[英 崇夫]/InN film deposition by planar magnetron sputtering/Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development & Performance Evaluation and Application

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EID
16847
EOID
707240
Map
0
LastModified
2013年8月27日(火) 11:54:13
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 国際会議
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
  2. 電気電子工学専攻(〜2011年3月31日)
  3. 徳島大学.工学部
  4. 機械工学専攻(〜2011年3月31日)
  5. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
  6. 徳島大学.工学部.機械工学科.生産システム講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sato Yoshifumi
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Mori Ichiro
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. (英) Furutani Kouhei
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  6. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) InN film deposition by planar magnetron sputtering

副題 任意
要約 任意

(日) 本論文は,ガラス基板上にRFプレーナマグネトロンスパッタリング法により生成したInN膜の結晶成長,表面形状,電気特性をX線回折,原子間力顕微鏡観察,Hall電圧特性,膜の抵抗特性の測定により観察したものである.作製した膜の結晶はすべてc軸配向を示していた.キャリア密度およびキャリア移動度を測定した.キャリア移動度は結晶粒径と共に増加したが,表面粗さの増大により移動度は減少した.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 (英) Proceedings of the Second International Conference on Advanced Materials Development & Performance Evaluation and Application
ISSN 任意
必須
必須
必須 474 477
都市 必須 徳島(Tokushima/[日本国])
年月日 必須 1999年 11月 23日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意