徳島大学 教育・研究者情報データベース(EDB)

Education and Research Database (EDB), Tokushima University

徳島大学ウェブサイトへのリンク

著作: [富永 喜久雄]/Sato Yoshifumi/Mori Ichiro/[日下 一也]/[英 崇夫]/Influence of target shape on properties of AlN sputtered film/[Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes)]

ヘルプを読む

「著作」(著作(著書,論文,レター,国際会議など))は,研究業績にかかる著作(著書,論文,レター,国際会議など)を登録するテーブルです. (この情報が属するテーブルの詳細な定義を見る)

  • 項目名の部分にマウスカーソルを置いて少し待つと,項目の簡単な説明がツールチップ表示されます.

この情報をEDB閲覧画面で開く

EID
16726
EOID
707239
Map
0
LastModified
2013年8月27日(火) 11:54:13
Operator
三木 ちひろ
Avail
TRUE
Censor
0
Owner
日下 一也
Read
継承
Write
継承
Delete
継承
種別 必須 学術論文(審査論文)
言語 必須 英語
招待 推奨
審査 推奨 Peer Review
カテゴリ 推奨 研究
共著種別 推奨
学究種別 推奨
組織 推奨
  1. 徳島大学.工学部.電気電子工学科.物性デバイス講座
著者 必須
  1. 富永 喜久雄
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  2. (英) Sato Yoshifumi
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  3. (英) Mori Ichiro
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  4. 日下 一也([徳島大学.大学院社会産業理工学研究部.理工学域.機械科学系.生産工学分野]/[徳島大学.理工学部.理工学科.機械科学コース.生産工学講座])
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
  5. 英 崇夫
    役割 任意 共著
    貢献度 任意
    学籍番号 推奨
題名 必須

(英) Influence of target shape on properties of AlN sputtered film

副題 任意
要約 任意

(英) AlN films were deposited by reactive magnetron sputtering with a roof-shaped Al target and conventional planar target. The c-axis orientation and the grain growth of AlN films were improved and the defects in the film were decreased, when the ion flux bombarding the film decreased. This trend was confirmed by depositing AlN films under various N2 gas pressures or external magnetic fields. These data indicate that there remains a considerable influence of ion bombardment in conventional planar magnetron sputtering, but the use of a roof-type target is effective for decreasing the exposure of the film to plasma as a result of a decrease in ion bombardment.

(日) 屋根型アルミニウムターゲットおよび従来型平板ターゲットを有する反応性スパッタリングによりAlN膜を堆積した.膜に衝突するイオン流が減少したとき,c軸配向性およびAlN膜の粒成長は向上し,膜中の欠陥が減少する.この傾向はいろいろなN2ガス圧や磁場でAlN膜を堆積させることで確認される.これらのデータは,従来型平板マグネトロンスパッタリングではイオン衝撃の影響を残すが,屋根型ターゲットの使用はイオン衝撃の軽減の結果として膜のプラズマ露光を減少させる効果があることを示す.

キーワード 推奨
発行所 推奨
誌名 必須 Japanese Journal of Applied Physics, Part 1 (Regular Papers & Short Notes)([応用物理学会])
(resolved by 0021-4922)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
(resolved by 1347-4065)
ISSN: 0021-4922 (pISSN: 0021-4922, eISSN: 1347-4065)
Title: Japanese journal of applied physics (2008)
Title(ISO): Jpn J Appl Phys (2008)
Supplier: 社団法人応用物理学会
Publisher: Japan Society of Applied Physics
 (NLM Catalog  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Webcat Plus  (Scopus  (Scopus  (Scopus  (CrossRef (Scopus information is found. [need login])
ISSN 任意
必須 37
必須
必須 5224 5226
都市 任意
年月日 必須 1998年 7月 1日
URL 任意
DOI 任意
PMID 任意
NAID 任意
WOS 任意
Scopus 任意
評価値 任意
被引用数 任意
指導教員 推奨
備考 任意